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工商注册信息已核实!参考报价: | 面议 | 型号: | JBX-3200MV |
品牌: | 日本电子 | 产地: | 日本 |
关注度: | 1167 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 | |
价格范围 | 30万-50万 |
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产品特点:
利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
产品规格:
拼接精度≦±3.5 nm
套刻精度≦±5 nm
JBX-3200MV 电子束光刻系统
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 基于加速电压50 kV的可变矩形电子束信息由日本电子株式会社(JEOL)为您提供,如您想了解更多关于日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 基于加速电压50 kV的可变矩形电子束报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途