400-6699-117转1000
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工商注册信息已核实!参考报价: | 面议 | 型号: | JBX-9500FS |
品牌: | 日本电子 | 产地: | 日本 |
关注度: | 1962 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 | |
价格范围 | 30万-50万 |
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产品特点:
由于采用的位置偏转DAC为20位,扫描DAC为14位,能获得0.25nm的扫描步距,分辨率更高,描画数据增长1nm,可以更忠实地再现描画数据。
zei快达到100MHz的高速化扫描速度,保证了大电流描画时的扫描步距很短,因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量。
由激光束控制(LBC)的0.15nm(λ/4096)的zei小定位单位及高分辨率,达到了世界zei高水准的位置精度。
本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能),实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间(任意的)、场和图形进行分别设定,非常适合于周末及休假等无人值守等情况下的长时间描画。
该系统zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的光掩模版,适合于纳米压印、光子器件、通信设备等各种领域的研发及生产。采用材料卡匣传送系统(选配),zei多可装载10个卡匣。
利用微间距控制程序(场尺寸微调程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
此外,由于具有100MHz的zei快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置精度达±9nm,是兼具世界zei高水准产出率和位置精度的100kV圆形束光刻系统。
产品规格:
电子枪
描画方式
加速电压
样品尺寸
zei大场尺寸
样品台移动范围
样品台控制单元
套刻精度
场拼接精度
写场内位置精度
定位DAC
扫描速度
ZrO/W 肖特基型 |
圆形束, 矢量扫描, 步进重复式 |
100kV |
样品尺寸 (可以安装): zei大300mmΦ的晶圆片, zei大6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小样品。 |
1000µm×1000µm |
260mmX240mm |
0.15nm(λ/4096) |
≦±11nm |
≦±10nm (场尺寸为1000µm×1000µm) |
≦±9nm(场尺寸为1000µm×1000µm) |
20位 |
zei大 100MHz |
JBX-9500FS 电子束光刻系统
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途