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参考报价: | 面议 | 型号: | Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150 |
品牌: | 布鲁克 | 产地: | 德国 |
关注度: | 1515 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 |
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Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150
Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
一、产品简介
Centrotherm Activator 150 高温炉设计用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm独特工艺炉管和加热系统设,允许工艺温度达到 1850 ℃。
此外,Activator 150 系列的产品可以实现生长石墨烯生长。通过碳化硅升华生长石墨层可以获得高性能器件。
Centrotherm 新一代SiC工艺炉管的研发用以满足新兴的150 毫米 SiC工艺。
Centrotherm Activator 150-5 是为研发工作而特制的,而Centrotherm Activator 150-50专为大批量生产设计。
广泛的工艺范围实现了对自定义化程序的优化, 例如温度, 气路系统和压力。
二、典型应用
SiC器件高温退火 (注入后)
GaN器件退火
大面积石墨烯生长
SiC表面制备
三、产品特性
性能和优势
高活化效率
最小表面粗糙度
最大温度可达 1850 ℃
占地面积小 [1.8m2]
升温速率可达 100 K/min
批处理晶片尺寸包括 2″、3″、4″、6″
批处理数量达到 40片2″/或3″硅片, 50片4″/或6″硅片
真空度小于10-3 mbar (可选)
可并排安装
选项
上下料腔室微环境控制
自动机械手装片
测温热偶
尺寸
Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150
一、产品简介
德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商,尤其在高温设备领域。Centrotherm Oxidator 150 经过专业的研发, 能够满足 SiC 圆片的高温氧化工艺; 同时亦可用于常规的硅圆片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 卓越的反应腔具有性能高、占地小和生产成本低等特点,为客户提供最高的工艺灵活度, 同时能够保证有毒气体的安全使用。
设备特点:
炉管和加热器均处于真空密闭反应腔内,上下料腔室可用Ar或 N2 进行吹扫,可以保证有毒气体(如 NO、N2O、H2、NO2 等) 的安全使用。
氧化工艺使用 N2O 气氛,可以改善 SiO2/SiC 接触表面以获得更高的通道迁移率,同时可提高SiC表面氧化物的稳定性和寿命。
提供带有氢氧合成系统的湿氧工艺。
高达 1350 ℃ 的温度和其他支持功能为 SiC 氧化工艺和低界面陷阱密度, 高通道移动率的氧化层研制提供可能。
二、适用工艺
高温SiC或Si氧化
氧化后退火(氢气环境)
三、产品特性
性能
圆片尺寸: 2″、3″、4″、6″
工艺温度: 900 ℃ ~ 1350 ℃
真空度: 小于10-3 mbar
占地面积小: 1.8m2
真空密封反应腔
可以并排安装
选项
氢氧合成用于湿氧
机械手装片
测温热偶
尺寸
四、设备参数
咨询:182 6326 2536(微信同号)
Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于Centrotherm 高温退火/氧化系统-Activator/Oxidator 150报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途