400-6699-117转1000
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参考报价: | 面议 | 型号: | Table-6 |
品牌: | FSM | 产地: | 中国 |
关注度: | 86 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 | |
价格范围 | 30万-50万 |
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快速退火炉RTP-150RL产品介绍一、简介1.1 概要RTP-150RL是在保护气氛下的桌面式快速退火系统,以红外可见光加热单片 Wafer或样品,工艺时间短,控温精度高,适用最大6英寸晶片。相对于传统扩散炉退火系统和其他RTP系统,其独特的腔体设计、先进的温度控制技术和独有的RL900软件控制系统,确保了极好的热均匀性。
1.2 产品特点
红外卤素灯管加热,冷却采用风冷
灯管功率PID控温,可精准控制温度升温,保证良好的重现性与温度均匀性
采用平行气路进气方式,气体的进入口设置在Wafer表面,避免退火过程中冷点产生,保证产品良好的温度均匀性
大气与真空处理方式均可选择,进气前气体净化处理
标配三组工艺气体
可测单晶片样品的最大尺寸为6英寸(150mm)
采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,全方位保障仪器使用安全
1.3 RTP行业应用
氧化物、氮化物生长
硅化物合金退火
砷化镓工艺
欧姆接触快速合金
氧化回流
其他快速热处理工艺
一、技术规格
最大产品尺寸 | 6寸晶圆或者最大支持150×150mm产品 |
腔体材质 | 镀金铝制腔体 |
腔体门锁方式 | 自动门锁,保证制程安全 |
温度范围 | 室温~800℃ |
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最高升温速度 | 150℃/s可编程(此温度为不含载盘的升温速度) 20℃/s(SiC载盘) |
温度均匀度 | ±5℃≤500℃ ±1%>500℃ |
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温度控制重复性 | ±1℃ |
恒温持续时间 | 可依据要求编程 |
温控方式 | 快速PID温控 |
控温区域 | 多组控温区域,保证恒温区温度稳定性 |
降温速度 | 约200℃/min(1000~400℃)不可编程 |
腔体设计 | 可配置大气常压腔体或者真空腔体 |
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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途