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等离子刻蚀机的测量与控制方法

2021.9.03

  由于等离子刻蚀工艺中的过程变量,如刻蚀率、气压、温度、等离子阻抗,等等,不易测量,因此业界常用的测量方法有:

  虚拟测量(Virtual Metrology)

  光谱测量(Optical emission spectroscopy)

  等离子阻抗监控(Plasma impedance monitoring)

  终端探测(end-point detection)

  远程耦合传感(remote-coupled sensing)

  控制方法

  run-to-run 控制(R2R)

  模型预测控制(MPC)

  人工神经网络控制

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