飞行时间二次离子质谱共享
仪器名称: | 飞行时间二次离子质谱 |
仪器编号: | 13027664 |
产地: | 德国 |
生产厂家: | ION-TOF GmbH |
型号: | TOF.SIMS 5 |
出厂日期: | 2012.5 |
购置日期: | 201312 |
所属单位: | 化学系>分析中心>北京电子能谱中心 |
放置地点: | 理科楼D-104 |
固定电话: | |
固定手机: | |
固定email: | |
联系人: | 郭冲(010-62783586,18210032027,guochong1992@163.com) 李芹(010-62783586,18813199160,liqincup@mail.tsinghua.edu.cn) 李展平(010-62783586,13718178346,zhanpingli@mail.tsinghua.edu.cn) |
分类标签: | SIMS 二次离子质谱 TOF-SIMS 飞行时间二次离子质谱 质谱 |
技术指标: | 1 分析器:反射式 质量分辨率:M/△M >1100028SiH+ >16000 (>200amu) 质量范围: >12000amu 2 LMIG:Bi源 最大能量:30keV 最大电流:30nA 最小束斑直径:<100nm(Atomic), <80nm(Cluster) 3 GCIB (Ar团簇离子枪) 能量范围:2.5~20keV Cluster 大小:约2500(m=100000amu) 4 O2+离子枪 (仅作溅射) 离子能量范围:0.2~2keV 5 Cs+离子枪(和O2+离子枪共享一个离子光学系统) 离子能量范围:0.2~2keV 6 带电中和低能电子枪 能量:1-20eV可调 7 样品台:5维加热/冷却 控温范围及精度:-150℃~600℃;±1℃ 8 EDR技术:动态范围增2个量级 9 本底真空:<5×10-10mba |
知名用户: | 半导体所 北京大学 北京邮电大学 北京有色金属研究总院 清华大学材料学院 核工业西南物理研究院 清华大学化学系 清华大学机械系 矿业大学 上海空间推进研究所 圣戈班研发(上海)有限公司 首都师范大学 有色院 中国科学院半导体研究所照明研发中心 中国科学院大学 中科院宁波材料所 |
技术团队: | 仪器运行和管理人李展平高级工程师2005年被人才引进到清华大学分析中心,在国内外多年从事表面分析特别是TOF-SIMS的分析研究工作。 |
功能特色: | 基本功能: 可用以表面下范围在2nm以内的最表层分析,能检测出包括氢(H)在内的所有元素及其同位素,对所有元素具有极高的检测灵敏度(ppm~ppb,因元素而异),可检测痕量杂质,及微量掺杂对材料和器件性能的影响;能测定从表面到深至数十μm的微量元素及化合物浓度布;能观测各种元素及化合物的1D、2D、3D分布,具有很高的空间分辨率(<100nm);能分析绝缘材料;能鉴定有机化合物分子,对有机材料结构分析有独特的能力,适于分析大分子、超高分子量有机化合物,并能测定分子量;能取得单分子层表面结构信息。 应用领域: 适用于有机、无机、生物、医学、电子、地质/考古、环境等各种领域的各种固体材料的分析。在有机纳米材料和器件、有机/高分子材料微量添加剂、微电子材料、催化剂、摩擦化学、新药创制、环境微颗粒微量成分、生物细胞分析等的研究开发中,它已成为必不可少的工具。 |
项目名称 | 计价单位 | 费用类别 | 价格 | 备注 |
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TOF-SIMS测试分析费 | 元/小时 | 测试费 | 1500.0 | |
表面分析 | 元/小时 | 测试费 | 600.0 |