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二次离子质谱仪制样
本专题涉及二次离子质谱仪制样的标准有110条。
国际标准分类中，二次离子质谱仪制样涉及到分析化学、金属材料试验、半导体材料、电学、磁学、电和磁的测量、半导体分立器件、食品试验和分析的一般方法。
在中国标准分类中，二次离子质谱仪制样涉及到基础标准与通用方法、半金属及半导体材料分析方法、元素半导体材料、物质成份分析仪器与环境监测仪器综合、光学计量仪器、表面活性剂、半金属与半导体材料综合、化学、电子光学与其他物理光学仪器、、食品卫生。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于二次离子质谱仪制样的标准
- GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
- GB/T 39144-2020 氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
国际标准化组织，关于二次离子质谱仪制样的标准
- ISO 13084:2018 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准
- ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱分析法.飞行时间二次离子质谱仪用质量标度的校准
- ISO 20411:2018 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数动态二次离子光谱法中饱和强度的校正方法
- ISO/TS 22933:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
- ISO 178:1975 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 17862:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 17862:2013 表面化学分析——二次离子质谱法——单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 178:2019 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- ISO 22048:2004 表面化学分析——静态二次离子质谱信息格式
- ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 18114:2021 表面化学分析. 次级离子质谱法. 测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- ISO 14237:2000 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- ISO 17560:2014 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
- ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
GSO，关于二次离子质谱仪制样的标准
- OS GSO ISO 13084:2013 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪的质量标度校准
- GSO ISO 13084:2013 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪的质量标度校准
- BH GSO ISO 13084:2016 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪的质量标度校准
- GSO ISO 23830:2013 表面化学分析 二次离子质谱 固定二次离子质谱中相对密度标度的重复性和稳定性
- OS GSO ISO 23830:2013 表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- BH GSO ISO 23830:2016 表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- GSO ISO 18114:2013 表面化学分析 二次离子质谱 离子标准物质相对灵敏度因子的测定
- GSO ISO 22048:2013 表面化学分析静态二次离子质谱的信息格式
- OS GSO ISO 22048:2013 表面化学分析静态二次离子质谱的信息格式
- BH GSO ISO 22048:2016 表面化学分析静态二次离子质谱的信息格式
- BH GSO ISO 17560:2016 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
- BH GSO ISO 18114:2016 表面化学分析 二次离子质谱 离子注入参比材料相对灵敏度因子的测定
- OS GSO ISO 12406:2013 表面化学分析二次离子质谱法硅中砷的深度分析方法
- GSO ISO 17560:2013 表面化学分析二次离子质谱测定硅中硼深度数据的方法
- GSO ISO 12406:2013 表面化学分析 二次离子质谱 测定硅中砷深度数据的方法
- OS GSO ISO 23812:2013 表面化学分析 二次离子质谱 多δ层参比材料的硅深度校准方法
- BH GSO ISO 23812:2016 表面化学分析 二次离子质谱 多δ层参比材料的硅深度校准方法
- GSO ISO 14237:2013 表面化学分析 二次离子质谱 使用标准化掺杂材料测定硅中硼的原子浓度
- GSO ISO 20341:2014 表面化学分析 二次离子质谱 用多层参考材料估计深度分辨率因子的方法 δ
- GSO ISO 23812:2013 表面化学分析 二次离子质谱 使用多层 Delta 参考材料的硅深度校准方法
- OS GSO ISO 20341:2014 表面化学分析二次离子质谱用多δ层参考材料估计深度分辨率参数的方法
- BH GSO ISO 20341:2016 表面化学分析二次离子质谱用多δ层参考材料估计深度分辨率参数的方法
日本工业标准调查会，关于二次离子质谱仪制样的标准
- JIS K 0157:2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 渡越时间二次离子质谱仪的质量标度的校准
- JIS K 0158:2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 单离子计数动态二次离子质谱法中饱和强度的校正方法
- JIS K 0153:2015 表面化学分析. 二次离子质谱法. 静态二次离子质谱法中相对强度范围的重复性和稳定性
- JIS K 0155:2018 表面化学分析 二次离子质谱法 单离子计数时间飞行质量分析仪中强度刻度的线性度
- JIS K 0168:2011 表面化学分析.静态二次离子质谱法用信息格式
- JIS K 0164:2023 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
- JIS K 0163:2010 表面化学分析.次级离子质谱法.离子注入标样中相对灵敏度系数的测定
- JIS K 0143:2023 表面化学分析-二次离子质谱-使用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
- JIS K 0156:2018 表面化学分析-二次离子质谱法-使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
英国标准学会，关于二次离子质谱仪制样的标准
- BS ISO 13084:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 飞行时间二次离子质谱仪的质量标度校准
- BS ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱.飞行时间二次离子质谱用质量标度的校准
- BS ISO 20411:2018 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数动态二次离子质谱饱和强度校正方法
- BS ISO 17862:2022 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- BS ISO 22048:2004 表面化学分析 静态二次离子质谱的信息格式
- BS ISO 22048:2004(2005) 表面化学分析静态二次离子质谱的信息格式
- 20/30409963 DC BS ISO 17862 表面化学分析 二次离子质谱分析 单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
- BS ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样的相对灵敏系数
- BS ISO 18114:2021 表面化学分析 二次离子质谱 离子注入参考材料的相对灵敏度因子的测定
- BS ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- 20/30409889 DC BS ISO 18114 表面化学分析 二次离子质谱 离子注入参考材料的相对灵敏度因子的测定
- BS ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
- BS ISO 20341:2003(2010) 表面化学分析 二次离子质谱 多δ层参考材料估计深度分辨率参数的方法
SCC，关于二次离子质谱仪制样的标准
- 10/30199193 DC BS ISO 13084 表面化学分析 二次离子质谱法 飞行时间二次离子质谱仪质量标度的校准
- 07/30138812 DC BS ISO 23830 表面化学分析 二次离子质谱法 静态二次离子质谱法中相对强度标度的重复性和恒定性
- BS ISO 14237:2000 表面化学分析 二次离子质谱 使用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
- 10/30199169 DC BS ISO 12406 表面化学分析 二次离子质谱法 硅中砷的深度剖析方法
- 09/30153670 DC BS ISO 14237 表面化学分析 二次离子质谱法 用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
- 08/30138809 DC BS ISO 23812 表面化学分析 二次离子质谱 使用多个δ层参考材料的硅深度校准方法
国家质检总局，关于二次离子质谱仪制样的标准
- GB/T 43663-2024 表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱相对强度标的重复性和一致性
- GB/T 42263-2022 硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 25186-2010 表面化学分析.二次离子质谱.由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
- GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
- GB/T 24580-2009 重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
- GB/T 20176-2006 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
- GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
- GB/T 29851-2013 光伏电池用硅材料中B、Al受主杂质含量的二次离子质谱测量方法
- GB/T 29852-2013 光伏电池用硅材料中P、As、Sb施主杂质含量的二次离子质谱测量方法
- GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法
- GB/T 42274-2022 氮化铝材料中痕量元素（镁、镓）含量及分布的测定 二次离子质谱法
- GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
法国标准化协会，关于二次离子质谱仪制样的标准
- NF ISO 23830:2009 表面化学分析 二次离子质谱 二次离子静态质谱中相对强度标度的重复性和稳定性
- NF X21-070*NF ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.
- NF ISO 14237:2010 表面化学分析 二次离子质谱分析 使用均匀掺杂材料的硅中硼原子的剂量
- NF ISO 17560:2006 表面化学分析 二次离子质谱分析 通过厚度分析确定硅中硼的剂量
- NF ISO 23812:2009 表面化学分析 二次离子质谱 使用多三角层状参比材料的硅深度校准方法
美国材料与试验协会，关于二次离子质谱仪制样的标准
- ASTM E1504-11(2019) 二次离子质谱法（SIMS）中质谱数据报告的标准实施规程
- ASTM E1162-87(2001) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
- ASTM E1162-87(1996) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
- ASTM E2695-09 用飞行时间二次离子质谱法说明质谱数据获取的标准指南
- ASTM E1635-95(2000) 二次离子质谱（SIMS）中成像数据报告的标准实施规程
- ASTM E1635-06(2019) 二次离子质谱（SIMS）中成像数据报告的标准实施规程
- ASTM F1366-92(1997)e1 用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法
- ASTM E1162-11(2019) 二次离子质谱法（SIMS）中溅射深度剖面数据报告的标准实施规程
行业标准-电子，关于二次离子质谱仪制样的标准
- SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
- SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
中国团体标准，关于二次离子质谱仪制样的标准
- T/SHPTA 035-2023 飞行时间二次离子质谱测试二次电池及其关键材料实验方法
- T/CASAS 010-2019 氮化镓材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法
- T/CASAS 009-2019 半绝缘碳化硅材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法
韩国科技标准局，关于二次离子质谱仪制样的标准
- KS D ISO 22048-2005(2020) 表面化学分析 - 静态二次离子质谱的信息格式
- KS D ISO 22048-2020 表面化学分析静态二次离子质谱的信息格式
- KS D ISO 18114-2005(2020) 表面化学分析二次离子质谱法离子注入标准物质相对灵敏度因子的测定
- KS D ISO 18114-2020 表面化学分析 二次离子质谱法 离子注入标准物质相对灵敏度因子的测定
- KS D ISO 18114:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
- KS D ISO 20341-2020 表面化学分析 二次离子质谱 多δ层标准物质估计深度分辨率参数的方法
- KS D ISO 20341-2005(2020) 表面化学分析二次离子质谱法用多δ层标准物质估算深度分辨参数的方法
KR-KS，关于二次离子质谱仪制样的标准
- KS D ISO 17560-2003(2023) 表面化学分析-二次离子质谱分析-硅内硼深度分布测定场法
- KS D ISO 14237-2003(2023) 表面下学分析-二次离子质谱分析-硅内均匀添加硼原子浓度的测定方法
国家质量监督检验检疫总局，关于二次离子质谱仪制样的标准
- SN/T 4585-2016 出口食品中甲基砷酸、二甲次胂酸残留量的测定 液相色谱-电感耦合等离子体质谱法
可能用到的仪器设备
