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近场成像原理
本专题涉及近场成像原理的标准有21条。
国际标准分类中，近场成像原理涉及到运动设备和设施、集成电路、微电子学、光学和光学测量、无损检测、光学设备。
在中国标准分类中，近场成像原理涉及到基础标准与通用方法、半导体集成电路、、光电子器件综合、光学仪器综合。
IET - Institution of Engineering and Technology，关于近场成像原理的标准
- PRINC PLANAR NEAR-FLD ANT MEAS-2007 平面近场天线测量原理
澳大利亚标准协会，关于近场成像原理的标准
- AS 3541.1:1988 合成运动场表面-普遍原理
国际标准化组织，关于近场成像原理的标准
- ISO 22290:2020 无损检测. 红外热成像检测. 热弹性应力测量方法的一般原理
- ISO 15529:1999 光学和光学仪器 光的传递函数 成像系统调制传递函数的测量原理
- ISO 15529:2007 光学和光子学.光学转移函数.取样成像系统的调制传递函数(MTF)的测量原理
- ISO 15529:2010 光学和光子学.光学转移函数.取样成像系统的调制传递函数(MTF)的测量原理
英国标准学会，关于近场成像原理的标准
- BS ISO 22290:2020 无损检测 红外热成像测试 热弹性应力测量方法的一般原理
- BS PD IEC/TR 61967-1-1:2015 集成电路.电磁辐射管理.第1-1部分:定义和一般条件.近似场扫描数据交换格式
- BS ISO 15529:2010 光学和光学仪器.光学传递函数.样品成像系统的调制传递函数(MTF)的测量原理
国际电工委员会，关于近场成像原理的标准
- IEC TR 61967-1-1:2010 集成电路.电磁辐射管理.第1部分:定义和一般条件.近似场扫描数据交换格式
行业标准-电子，关于近场成像原理的标准
- SJ/T 11006-1996 半导体电视集成电路行场扫描电路测试方法的基本原理
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于近场成像原理的标准
- GB/T 41123.1-2021 无损检测 工业射线计算机层析成像检测 第1部分：原理、设备和样品
韩国科技标准局，关于近场成像原理的标准
- KS B ISO 15529-2011(2021) 光学和光子学.光学传递函数.取样成像系统调制传递函数（MTF）的测量原理
- KS B ISO 15529:2011 光学和光子学.光学转移函数.取样成像系统的调制传递函数(MTF)的测量原理
- KS B ISO 15529-2011(2016) 光学和光子学 - 光学传递函数 - 采样成像系统的调制传递函数（MTF）的测量原理
德国标准化学会，关于近场成像原理的标准
- DIN ISO 15529:2010-11 光学和光子学 光学传递函数 采样成像系统的调制传递函数(MTF)测量原理
- DIN ISO 15529:2010 光学和光子学.光学传递函数.采样成像系统调制传递函数(MTF)的测量原理(ISO 15529-2010)
法国标准化协会，关于近场成像原理的标准
- NF S10-050*NF ISO 15529:2011 光学和光子学 光学转移函数 取样成像系统的调制传递函数（MIF）的测量原理
- NF ISO 15529:2011 光学和光子学 - 光学传递函数 - 测量采样成像系统的调制传递函数 (MTF) 的原理
KR-KS，关于近场成像原理的标准
- KS B ISO 15529-2023 光学和光子学.光学传递函数.采样成像系统的调制传递函数（MTF）的测量原理
EU/EC - European Union/Commission Legislative Documents，关于近场成像原理的标准
- 77/576/EEC-1977 关于近似于成员国有关在工作场所提供安全标志的法律 法规和行政规定的理事会指令
