ASTM F399-00a
ASTM F399-00a
- 标准号
- ASTM F399-00a
- 发布
- 1970年
- 发布单位
- /
- 当前最新
- ASTM F399-00a
- 引用标准
- ASTM C28 ASTM C35 ASTM C36 ASTM D5127
- 适用范围
- 1.1 本测试方法涵盖了在沉积层和衬底之间的界面区域厚度小于 20 nm 的条件下沉积的硅异质外延或多晶硅层厚度的测定。 20 nm 及更厚的界面区域很少出现，但可以通过原始光滑基板中的粗糙度来证明，在完成厚度测量并且该层已被蚀刻掉后，可以通过轮廓仪检测到该粗糙度。
1.2 本测试方法适用于厚度在 0.1 至 20 µm（含）范围内的层。其他厚度可以通过相同的技术测量，但预期的精度尚未确定。
1.3 本测试方法适用于沉积在任何基材上的硅层，例如二氧化硅、蓝宝石、尖晶石等，不会受到推荐蚀刻的显着侵蚀（见 8.3 和 8.4）。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。具体危险说明见第 9 节。