ASTM F576-01
ASTM F576-01
- 标准号
- ASTM F576-01
- 发布
- 1970年
- 发布单位
- /
- 当前最新
- ASTM F576-01
- 引用标准
- ASTM C31/C31M ASTM D5127 ASTM E177 ASTM E284 ASTM F95
- 适用范围
- 1.1 本测试方法涵盖通过椭圆光度法测量在硅衬底上生长或沉积的绝缘体的厚度和折射率。
1.2 本试验方法采用单色光。
1.3 本测试方法是非破坏性的，可用于测量任何基材（1）对测量波长的光不透明的任何基材上不吸收测量波长的光的任何薄膜的厚度和折射率，以及（2）用于测量波长的材料的厚度和折射率。其中折射率和吸收系数在测量波长下都是已知的。
1.4 在小于光束光斑尺寸的区域、基板平整度、绝缘体厚度和折射率方面，该测试方法的精度会因变化而降低。
1.5 通过椭圆体测量法确定的薄膜厚度测量结果并不唯一。当膜厚大于根据表达式 Nl/[2(n 2 − sin 2 f0)1/2 ] 计算时，其中 N 为整数，l 为测量波长，n 为折射率，f0 为角度的入射，由该表达式确定的厚度值必须添加到由椭圆光度法确定的厚度值以获得正确的膜厚度。 N 的值必须通过另一个过程获得。
1.6 提供了两种计算结果的程序。如果使用图形程序，测量波长应为 546.1 或 632.8 nm，入射角应为 70 6 0.1°。
1.7 本测试方法可用于裁判测量 1 本测试方法由 ASTM 电子委员会 F01 管辖，并由电气和光学测量小组委员会 F01.06 直接负责。当前版本于 2001 年 6 月 10 日批准。2001 年 8 月发布。最初发布为 F 576 – 78。上一版本 F 576 – 00。1 版权所有 © ASTM, 100 Barr Harbor Drive, West Conshohocken, PA 19428-2959, United States。注意：本标准已被新版本取代或废止。请联系 ASTM 国际 (www.astm.org) 了解最新信息。 用计算机计算。
1.8 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。具体危险说明见第 9 节。