JIS X 9206-1:2000
过程控制和工作流程用数据库结构体系模型和控制参数编码.第1部分:结构体系模型和数据库格式

Database architecture model and control parameter coding for process control and workflow Part 1: Architecture model and database format


 

 

非常抱歉,我们暂时无法提供预览,您可以试试: 免费下载 JIS X 9206-1:2000 前三页,或者稍后再访问。

您也可以尝试购买此标准,
点击右侧 “立即购买” 按钮开始采购(由第三方提供)。

 

标准号
JIS X 9206-1:2000
发布
2000年
发布单位
日本工业标准调查会
当前最新
JIS X 9206-1:2000
 
 
适用范围
この規格群は,印刷関連産業において,ワークフロー表現及び工程制御を目的とした構造モデル,データべース記述書式及び制御パラメタ表現を規定するが,この規格は,構造モデル及びデータべース記述書式を規定する。

JIS X 9206-1:2000相似标准


推荐

PI数据库及其在电厂SIS中的应用

而实时数据库是电厂SIS体系结构的基础,目前电厂较常用的是美国OSI soft软件公司开发的电厂信息PI(Plant Information)实时数据库系统。Pl用于电厂数据的自动采集、存储监视。作为大型实时数据库历史数据库,PI可在线存储每个工艺过程点的多年数据。...

近五年我国近红外光谱分析技术研究与应用进展

我国邵学广教授团队在这一方法学领域开展了系列的研究工作,通过水的光谱信息及其随 “扰动因素” 的变化建立了溶液体系( 包括实际体系及生物体系等) 的定量、定性分析方法,利用水的光谱信息探测理解水在化学生物过程中作用与功能[35]。...

如何为AutoChrom Challenge 准备信息资料

进行AutoChrom Challenge 的类型通常为:基于理化性质计算,统计学模型以及应用数据库寻找方法的起点。基于数学模型的方法对目标方法进行方法优化。基于理化性质计算,统计学模型以及应用数据库寻找方法的起点:用户至少应提供目标物结构信息,方法列表如下:方法1:客户可将化合物的结构名称从画图软件中拷贝到Microsoft Word内提供。...

X射线粉末衍射结构精修

拟合过程是不断调节模型参数值,最终使实验数据与模型计算值间达到最佳吻合。全谱拟合分析中,对研究材料有用的模型参数是晶体结构参数结构参数,在多相情况还有各组成相的含量值。  拟合所用的表达式:  最小二乘法计算拟合残差最小值:  其中Sy是残差值,Yi是实验数据中i个点的值,Yci是模型计算值。Wi是权重值。  ...





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号