BS ISO 14706:2000
表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定

Surface chemical analysis - Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

被代替

标准号

BS ISO 14706:2000

发布

2001年

发布单位

英国标准学会

替代标准

BS ISO 14706:2014

BS ISO 14706:2001

当前最新

BS ISO 14706:2014

 

 

被代替标准

99/122512 DC:1999

适用范围

本国际标准规定了测量化学机械抛光或外延硅片表面元素污染原子表面密度的 TXRF 方法。该方法适用于： ——原子序数为16（S）至92（U）的元素； ——原子表面密度为 1 × 10 个原子/cm 至 1 × 10 个原子/cm 的污染元素； — 使用 VPD（气相分解）样品制备方法（见 3.4），原子表面密度为 5 × 10 个原子/cm 至 5 × 10 个原子/cm 的污染元素。

BS ISO 14706:2000相似标准

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