氢氧化铵 是非强制性国家标准，您可以免费下载预览页
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全文共1227字，阅读大约需要4分钟氢氧化铵 (NH4OH) 是制造半导体器件时用到的一种化学品，因此必须对其进行痕量金属杂质分析。氢氧化铵具有较高的蒸气压，会导致等离子体不稳定，因此采用 ICP-MS 直接分析未经稀释 (20%) 的 NH4OH 极具挑战性。ICP-MS分析高纯度的 NH4OH 仍是困难重重，主要有下面两点原因。半导体器件的整个制造过程中会用到多种化学品。...
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