气体.氩气含量测定.间接法 是非强制性国家标准,您可以免费下载预览页
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对Fab工厂而言,控制晶圆、电子化学品、电子特气和靶材等原材料中的无机元素杂质含量至关重要,即便是超痕量的杂质都有可能造成器件缺陷。然而半导体杂质含量通常在ppt级,ICP-MS分析时用到的氩气及样品基体都很容易产生多原子离子干扰,标准模式、碰撞模式下很难在高本底干扰的情况下分析痕量的目标元素。...
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