全反射x荧光
本专题涉及全反射x荧光的标准有18条。
国际标准分类中，全反射x荧光涉及到金属材料试验、半导体材料、分析化学。
在中国标准分类中，全反射x荧光涉及到半金属及半导体材料分析方法、半金属与半导体材料综合、基础标准与通用方法。
国家质检总局，关于全反射x荧光的标准
- GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
- GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
- GB/T 42360-2023 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析
德国标准化学会，关于全反射x荧光的标准
- DIN 51003:2004 全反射X-射线荧光.总则和定义
未注明发布机构，关于全反射x荧光的标准
- DIN 51003 E:2021-05 全反射X-射线荧光 总则和定义
- DIN 51003:2022-05 全反射X-射线荧光 总则和定义
- ASTM RR-F01-1012 1996 F1526-通过全反射 X 射线荧光光谱测量硅片表面金属污染的标准测试方法
SCC，关于全反射x荧光的标准
- DIN 51003 E:2021 文件草案 全反射 X 射线荧光 原则和定义
日本工业标准调查会，关于全反射x荧光的标准
- JIS K 0181:2021 表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
国际标准化组织，关于全反射x荧光的标准
- ISO 20289:2018 表面化学分析.水的全反射X射线荧光分析
- ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
英国标准学会，关于全反射x荧光的标准
- BS ISO 20289:2018 表面化学分析 水的全反射X射线荧光分析
- PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析 全反射 X 射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
- BS PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于全反射x荧光的标准
- GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
韩国科技标准局，关于全反射x荧光的标准
- KS D ISO 14706-2003(2018) 表面化学分析-全反射X-射线荧光分析仪测定硅片表面元素杂质
- KS D ISO 14706:2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
KR-KS，关于全反射x荧光的标准
- KS D ISO 14706-2003(2023) 表面化学分析-全反射X射线荧光分析仪测定硅晶片表面元素杂质
