ZH

RU

EN

espectrometría de masas de ionización secundaria

espectrometría de masas de ionización secundaria, Total: 83 artículos.

En la clasificación estándar internacional, las clasificaciones involucradas en espectrometría de masas de ionización secundaria son: Química analítica, pruebas de metales, Materiales semiconductores, Pilas y baterías galvánicas., Dispositivos semiconductores, Métodos generales de pruebas y análisis para productos alimenticios..


International Organization for Standardization (ISO), espectrometría de masas de ionización secundaria

  • ISO 17109:2022 Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para determinar la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia de fotoelectrones de rayos X, espectroscopia de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios. Profundidad de pulverización p.
  • ISO 17109:2015 Análisis químico de superficies - Perfilado de profundidad - Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia fotoelectrónica de rayos X, espectroscopía de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando películas delgadas de una o varias capas
  • ISO 13084:2018 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo.
  • ISO 13084:2011 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
  • ISO 20411:2018 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método de corrección para intensidad saturada en espectrometría de masas dinámica de iones secundarios con recuento de iones únicos
  • ISO/TS 22933:2022 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para medir la resolución de masas en SIMS.
  • ISO 22048:2004 Análisis químico de superficies. Formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios.
  • ISO 12406:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio
  • ISO 17560:2014 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el boro en silicio.
  • ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
  • ISO 14237:2000 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
  • ISO 178:1975 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
  • ISO 17862:2013 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
  • ISO 178:2019 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
  • ISO 17862:2022 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con recuento de iones individuales.
  • ISO 23830:2008 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Repetibilidad y constancia de la escala de intensidad relativa en espectrometría de masas de iones secundarios estática

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • GB/T 41064-2021 Análisis químico de superficies—Perfiles de profundidad—Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopía fotoelectrónica de rayos X, espectroscopia de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando películas delgadas de una o varias capas
  • GB/T 40129-2021 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo.
  • GB/T 39144-2020 Método de prueba para el contenido de magnesio en materiales de nitruro de galio: espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 41153-2021 Determinación del contenido de impurezas de boro, aluminio y nitrógeno en un monocristal de carburo de silicio: espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 40109-2021 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el boro en silicio.

British Standards Institution (BSI), espectrometría de masas de ionización secundaria

  • BS ISO 17109:2022 Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopía fotoelectrónica de rayos X, espectroscopía electrónica Auger y perfilado del departamento de pulverización catódica por espectrometría de masas de iones secundarios utilizando una o varias capas delgadas...
  • 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1. Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia de fotoelectrones de rayos X, espectroscopia de electrones Auger y espectrometría de masas de iones secundarios. Perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando sistemas simples y...
  • BS ISO 17109:2015 Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Método para la determinación de la velocidad de pulverización catódica en espectroscopia fotoelectrónica de rayos X, espectroscopia electrónica Auger y espectrometría de masas de iones secundarios. Perfilado de profundidad de pulverización catódica utilizando películas delgadas de una o varias capas.
  • BS ISO 13084:2011 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
  • BS ISO 20411:2018 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método de corrección para intensidad saturada en espectrometría de masas dinámica de iones secundarios con recuento de iones únicos
  • BS ISO 13084:2018 Cambios rastreados. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
  • BS ISO 22048:2004 Análisis químico de superficies. Formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios.
  • BS ISO 12406:2010 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio.
  • BS ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
  • BS ISO 17862:2022 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con conteo de iones individuales
  • BS ISO 23830:2008 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Repetibilidad y constancia de la escala de intensidad relativa en espectrometría de masas de iones secundarios estática
  • 20/30409889 DC BS ISO 18114. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones.
  • 20/30409963 DC BS ISO 17862. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con conteo de iones individuales
  • BS ISO 18114:2021 Cambios rastreados. Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones.

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), espectrometría de masas de ionización secundaria

  • JIS K 0157:2021 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Calibración de la escala de masas para un espectrómetro de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
  • JIS K 0158:2021 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método de corrección para intensidad saturada en espectrometría de masas dinámica de iones secundarios con recuento de iones únicos
  • JIS K 0153:2015 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Repetibilidad y constancia de la escala de intensidad relativa en espectrometría de masas de iones secundarios estática
  • JIS K 0168:2011 Análisis químico de superficies: formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios
  • JIS K 0164:2023 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método para perfilar en profundidad el boro en silicio
  • JIS K 0155:2018 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Linealidad de la escala de intensidad en analizadores de masas de tiempo de vuelo con conteo de iones individuales
  • JIS K 0143:2023 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente

Association Francaise de Normalisation, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • NF ISO 23830:2009 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Repetibilidad y constancia de la escala de intensidades relativas en espectrometría de masas estática de iones secundarios
  • NF X21-070*NF ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente.
  • NF ISO 17560:2006 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de boro en silicio mediante perfiles de espesor
  • NF X21-064*NF ISO 23830:2009 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Repetibilidad y constancia de la escala de intensidad relativa en espectrometría de masas estática de iones secundarios.

American Society for Testing and Materials (ASTM), espectrometría de masas de ionización secundaria

  • ASTM E1504-11(2019) Práctica estándar para informar datos espectrales de masas en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E2695-09 Guía estándar para la interpretación de datos espectrales de masas adquiridos con espectroscopía de masas de iones secundarios de tiempo de vuelo
  • ASTM E1162-87(2001) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1162-87(1996) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1635-95(2000) Práctica estándar para informar datos de imágenes en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1635-06(2019) Práctica estándar para informar datos de imágenes en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1504-92(1996) Práctica estándar para informar datos espectrales de masas en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1504-92(2001) Práctica estándar para informar datos espectrales de masas en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1504-06 Práctica estándar para informar datos espectrales de masas en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1504-11 Práctica estándar para informar datos espectrales de masas en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1162-11(2019) Práctica estándar para informar datos del perfil de profundidad de pulverización catódica en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)
  • ASTM E1635-06(2011) Práctica estándar para informar datos de imágenes en espectrometría de masas de iones secundarios (SIMS)

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • GB/T 42263-2022 Determinación del contenido de nitrógeno en monocristal de silicio: método de espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 29851-2013 Método de prueba para medir boro y aluminio en materiales de silicio utilizados para aplicaciones fotovoltaicas mediante espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 29852-2013 Método de prueba para medir fósforo, arsénico y antimonio en materiales de silicio utilizados para aplicaciones fotovoltaicas mediante espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 25186-2010 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones.
  • GB/T 32495-2016 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Método para perfilar en profundidad el arsénico en silicio.
  • GB/T 24580-2009 Método de prueba para medir la contaminación por boro en sustratos de silicio tipo n fuertemente dopados mediante espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 24575-2009 Método de prueba para medir sodio, aluminio, potasio y hierro en superficies sobre sustratos de silicio y epi mediante espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 20176-2006 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente.
  • GB/T 32281-2015 Método de prueba para medir oxígeno, carbono, boro y fósforo en obleas y materias primas de silicio solar. Espectrometría de masas de iones secundarios
  • GB/T 42274-2022 Determinación del contenido y distribución de oligoelementos (magnesio, galio) en materiales de nitruro de aluminio. Espectrometría de masas de iones secundarios.
  • GB/T 22572-2008 Un método para estimar parámetros resueltos en profundidad utilizando materiales de referencia en capas multidelta para espectrometría de masas de iones secundarios en química de superficies
  • GB/T 20749-2006 Método para la determinación de residuos de β estradiol en orina bovina, cromatografía de gases, método de espectrometría de masas de ionización química de iones negativos

Professional Standard - Electron, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • SJ/T 11493-2015 Método de prueba para medir la concentración de nitrógeno en sustratos de silicio mediante espectrometría de masas de iones secundarios
  • SJ/T 11498-2015 Método de prueba para medir la contaminación por oxígeno en sustratos de silicio fuertemente dopados mediante espectrometría de masas de iones secundarios

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), espectrometría de masas de ionización secundaria

  • KS D ISO 22048-2005(2020) Análisis químico de superficies: formato de información para espectrometría de masas estática de iones secundarios
  • KS D ISO 18114-2005(2020) Análisis químico de superficie-Espectrometría de masas de iones secundarios-Determinación de factores de sensibilidad relativa a partir de materiales de referencia implantados con iones
  • KS D ISO 20341-2005(2020) Análisis químico de superficie-Espectrometría de masas de iones secundarios-Método para estimar parámetros de resolución de profundidad con múltiples materiales de referencia de capa delta

未注明发布机构, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • BS ISO 22048:2004(2005) Análisis químico de superficies. Formato de información para espectrometría de masas de iones secundarios estáticos.

Professional Standard - Agriculture, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • 781兽药典 一部-2015 Contenido del Apéndice 0400 Espectroscopia 0412 Espectrometría de masas con plasma acoplado inductivamente
  • 775兽药典 二部-2015 Contenido del Apéndice 0400 Espectroscopia 0411 Espectrometría de masas con plasma acoplado inductivamente

Shandong Provincial Standard of the People's Republic of China, espectrometría de masas de ionización secundaria

Group Standards of the People's Republic of China, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • T/CASAS 010-2019 Determinación de la concentración y distribución de trazas de impurezas en materiales de GaN mediante espectrometría de masas de iones secundarios
  • T/CASAS 009-2019 Determinación de la concentración y distribución de trazas de impurezas en materiales de SiC semiaislantes mediante espectrometría de masas de iones secundarios

国家质量监督检验检疫总局, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • SN/T 4585-2016 Determinación de residuos de ácido metilarsónico y ácido dimetilarsínico en alimentos exportados mediante cromatografía líquida-espectrometría de masas de plasma acoplado inductivamente

KR-KS, espectrometría de masas de ionización secundaria

  • KS D ISO 17560-2003(2023) Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Método de medición de la distribución de profundidad del boro en silicio




©2007-2023 Reservados todos los derechos.