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aes 오거 일렉트로닉스

모두 91항목의 aes 오거 일렉트로닉스와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 aes 오거 일렉트로닉스와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 분석 화학, 광학 장비, 광학 및 광학 측정, 금속 재료 테스트, 종합 전자 부품, 비파괴 검사, 길이 및 각도 측정, 전기, 자기, 전기 및 자기 측정.


Association Francaise de Normalisation, aes 오거 일렉트로닉스

  • NF ISO 16242:2012 표면 화학 분석 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 로깅 및 보고
  • NF X21-072*NF ISO 16242:2012 표면 화학 분석 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고
  • NF ISO 24236:2006 표면 화학 분석을 위한 Auger 전자 스펙트럼 에너지 준위의 반복성과 불변성
  • NF X21-068*NF ISO 29081:2010 표면 화학 분석을 위한 오제 전자 분광법의 전하 제어 및 교정 방법에 대한 보고서
  • NF X21-059*NF ISO 24236:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 강도 수준의 반복성 및 지속성
  • NF ISO 29081:2010 표면 화학 분석을 위한 오제 전자 분광법의 전하 제어 및 보정에 사용되는 방법 표시
  • NF ISO 17973:2006 표면 화학 분석에서 분해능 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 규모 교정

International Organization for Standardization (ISO), aes 오거 일렉트로닉스

  • ISO 16242:2011 표면 화학 분석 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고
  • ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 화학 정보 추출
  • ISO/TR 18394:2006 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 화학 정보 도출
  • ISO 29081:2010 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 전하 제어 및 전하 조정 보고 방법.
  • ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 척도의 선형성
  • ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
  • ISO 15471:2004 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • ISO 15471:2016 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • ISO/DIS 17973:2023 표면 화학 분석에서 원소 분석 에너지 분해능 수준의 교정 오거 전자 분광계
  • ISO/CD 17973 표면 화학 분석에서 분해능 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 규모 교정
  • ISO 20903:2011 표면 화학 분석 오제 전자 에너지 분광법 및 X선 광전자 분광법 결과 보고에 필요한 피크 강도 결정 방법 및 정보
  • ISO 20903:2019 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 결과 보고 시 필요한 피크 강도 및 정보를 결정하는 데 사용되는 방법

German Institute for Standardization, aes 오거 일렉트로닉스

  • DIN ISO 16242:2020-05 표면 화학 분석은 AES(Auger Electron Spectroscopy)로 데이터를 기록하고 보고합니다.
  • DIN ISO 16242:2020 표면 화학 분석을 위한 AES(Auger 전자 분광학)의 데이터 기록 및 보고(ISO 16242:2011), 영어 텍스트

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, aes 오거 일렉트로닉스

  • GB/T 32565-2016 표면 화학 분석을 위한 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고에 대한 사양 요구 사항
  • GB/T 35158-2017 오거 전자 분광계 교정 방법
  • GB/T 32998-2016 Auger 전자 분광학 전하 제어 보고를 위한 사양 요구 사항 및 표면 화학 분석을 위한 수정 방법

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, aes 오거 일렉트로닉스

  • GB/T 26533-2011 Auger 전자 분광학 분석 방법의 일반 원리
  • GB/Z 32494-2016 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 화학 정보 해석
  • GB/T 28632-2012 표면 화학 분석오거 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법측면 분해능 결정
  • GB/T 29558-2013 표면 화학 분석을 위한 Auger 전자 분광법 강도 척도의 반복성과 일관성
  • GB/T 25187-2010 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 선택된 기기 성능 매개변수의 표현
  • GB/T 21006-2007 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
  • GB/T 31470-2015 오제(Auger) 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 테스트에서 검출 신호에 해당하는 샘플 영역을 결정하기 위한 일반 규칙
  • GB/T 29732-2013 표면 화학 분석을 위한 중해상도 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 스케일 교정
  • GB/T 29731-2013 표면 화학 분석 고해상도 오거 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 스케일 교정
  • GB/T 28893-2012 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고에 필요한 정보

Professional Standard - Machinery, aes 오거 일렉트로닉스

Professional Standard - Electron, aes 오거 일렉트로닉스

  • SJ/T 10457-1993 Auger 전자 분광법의 심층 분석을 위한 표준 지침
  • SJ/T 10458-1993 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법을 위한 시료 처리를 위한 표준 가이드

RU-GOST R, aes 오거 일렉트로닉스

  • GOST R ISO 16242-2016 측정 일관성을 보장하기 위한 국가 시스템 표면 화학 분석 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, aes 오거 일렉트로닉스

  • GB/T 36504-2018 인쇄 회로 기판의 표면 오염 물질 분석 오거 전자 분광법
  • GB/T 36533-2018 오제(Auger) 전자 분광법을 이용한 규산염 내 미립자 철의 화학적 상태 측정
  • GB/T 29732-2021 중해상도의 원소 분석을 위한 에너지 스케일 보정 표면 화학 분석을 위한 오거 전자 분광기

American Society for Testing and Materials (ASTM), aes 오거 일렉트로닉스

  • ASTM E1127-91(1997) Auger 전자 분광학의 깊이 프로파일링을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1127-08(2015) Auger 전자 분광학의 깊이 프로파일링을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1127-08 Auger 전자 분광학의 깊이 프로파일링을 위한 표준 가이드
  • ASTM E983-94(1999) Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E983-10(2018) Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E983-05 Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E995-16 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 배경 빼기 기술에 대한 표준 가이드
  • ASTM E983-19 Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E996-04 Auger 전자 분광계 및 X선 광전자 분광법의 데이터 보고에 대한 표준 관행
  • ASTM E996-10 Auger 전자 분광계 및 X선 광전자 분광법의 데이터 보고에 대한 표준 관행
  • ASTM E996-10(2018) Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 데이터 보고에 대한 표준 관행
  • ASTM E996-19 Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 데이터 보고에 대한 표준 관행
  • ASTM E827-07 Auger 전자 분광계의 피크를 사용하여 원소를 식별하는 표준 관행
  • ASTM E996-94(1999) Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 데이터 보고를 위한 표준 관행
  • ASTM E984-95(2001) Auger 전자 분광법에서 화학 및 매트릭스 효과를 식별하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E984-95 Auger 전자 분광법에서 화학 및 매트릭스 효과를 식별하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E984-12(2020) Auger 전자 분광법에서 화학 및 매트릭스 효과를 식별하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E984-06 화학적 효과 및 매트릭스 효과 식별에 오제 전자 분광법 적용을 위한 표준 가이드
  • ASTM E983-10 Auger 전자 분광법의 화학 및 매트릭스 효과 측정을 위한 표준 가이드
  • ASTM E984-12 Auger 전자 분광법을 사용하여 화학 및 매트릭스 효과를 식별하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E995-11 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법에서 배경 제거 기술 적용을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1217-11 X선 광전자 분광계 및 오거 전자 분광계를 사용하여 검출 신호에 영향을 미치는 샘플 영역을 결정하기 위한 표준 작업 절차
  • ASTM E1217-00 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계를 사용하여 검출 신호에 영향을 미치는 샘플 영역을 결정하기 위한 표준 관행
  • ASTM E1217-05 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계를 사용하여 검출 신호에 영향을 미치는 샘플 영역을 결정하기 위한 표준 관행
  • ASTM E1217-11(2019) Auger 전자 분광계 및 일부 X선 광전자 분광계에서 감지된 신호의 샘플 영역을 결정하기 위한 표준 관행

British Standards Institution (BSI), aes 오거 일렉트로닉스

  • PD ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석 오거 전자 분광법을 통한 화학 정보 도출
  • BS PD ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 화학 정보 도출
  • BS ISO 21270:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 및 오제 전자 분광계 강도 척도의 선형성
  • BS ISO 16242:2011 표면 화학 분석 - AEC(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고
  • BS ISO 29081:2010 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 전하 제어 및 전하 조정 보고 방법.
  • BS ISO 15471:2016 표면 화학 분석을 위한 Auger 전자 분광법을 위해 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • BS ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
  • BS ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
  • BS ISO 15471:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • BS ISO 24236:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 강도 척도의 반복성과 일관성
  • BS ISO 17973:2016 표면 화학 분석에서 분해능 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 규모 교정
  • BS ISO 20903:2019 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고 시 필요한 정보

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), aes 오거 일렉트로닉스

  • KS D ISO 21270:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광계 및 오제 전자 분광계강도 규모의 선형성
  • KS D ISO 15471-2005(2020) 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 - 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • KS D ISO 21270-2005(2020) 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모의 선형성
  • KS D ISO 15471:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • KS D ISO 17973-2011(2021) 표면 화학 분석 - 보통 분해능 오거 전자 분광계 - 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • KS D ISO 17973-2011(2016) 표면 화학 분석에서 중해상도 오제 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • KS D ISO 17974-2011(2021) 표면 화학 분석 - 고해상도 오제 전자 분광계 - 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • KS D ISO 17974-2011(2016) 표면 화학 분석을 위한 고해상도 오제 전자 분광계의 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • KS D ISO 19319-2005(2020) 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 분석기 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역 결정

未注明发布机构, aes 오거 일렉트로닉스

  • BS ISO 18516:2006(2010) 표면 화학 분석 Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 측면 분해능 결정
  • BS ISO 21270:2004(2010) 표면 화학 분석X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계강도 규모 선형성
  • BS ISO 17974:2002(2010) 표면 화학 분석과 원소 및 화학 상태 분석을 위한 고해상도 오제 전자 분광계의 에너지 레벨 교정

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), aes 오거 일렉트로닉스

  • JIS K 0161:2010 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명




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