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DE전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
모두 387항목의 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학와 관련된 표준이 있다.
국제 분류에서 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 전기, 자기, 전기 및 자기 측정, 분석 화학, 종합 전자 부품, 비파괴 검사, 계측 및 측정 합성, 길이 및 각도 측정, 광학 및 광학 측정, 전자 및 통신 장비용 전자 기계 부품, 광학 장비, 금속 재료 테스트, 입자 크기 분석, 스크리닝, 반도체 개별 장치, 포괄적인 테스트 조건 및 절차, 범죄 예방, 방사선방호, 유체 흐름 측정, 고무 및 플라스틱 제품, 원자력공학, 방사선 측정, 홈 자동 제어 장치, 전기 및 전자 테스트, 반도체 소재, 태양광 공학, 비철금속, 수공구, 수질, 페인트 및 바니시, 광전자공학, 레이저 장비, 밥을 먹이다, 물리학, 화학, 우유 및 유제품, 제공하다, 통신 종합, 전등 및 관련 기기, 건물 내 시설, 의료 과학 및 의료 기기 통합, 수력공학, 종이와 판지, 플라스틱, 회사(기업)의 조직 및 관리, 정보 기술(IT) 종합, 용어(원칙 및 조정), 단열재, 전기 장치, 전송 및 배전망, 환경 보호, 건강 및 안전, 의료 장비, 노동, 고용, 경보 및 경고 시스템, 어휘, TV 방송 및 라디오 방송, 회로망, 식용유지, 유지종자, 기계 안전, 산업자동화 시스템, 전기공학종합, 소독 및 살균, 석유제품 종합, 식품 테스트 및 분석의 일반적인 방법.
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
National Metrological Verification Regulations of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Education, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Agriculture, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Electron, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
German Institute for Standardization, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
British Standards Institution (BSI), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- BS ISO 16129:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광기 X선 광전자 분광기의 일상적인 성능 평가 절차
- BS ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항
- BS ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
- BS ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
- BS ISO 15471:2016 표면 화학 분석을 위한 Auger 전자 분광법을 위해 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- BS ISO 20903:2019 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고 시 필요한 정보
- BS ISO 23420:2021 마이크로빔 분석의 에너지 분해능 결정 방법, 전자현미경, 전자 에너지 손실 분광학 분석
- BS ISO 10810:2019 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
- BS ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
- BS ISO 17109:2022 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 및 다층 필름의 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법...
- 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 표면 화학 분석의 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 이온 질량 분석법을 사용하는 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도 결정 방법...
- BS ISO 24639:2022 마이크로빔 분석 분석 전자현미경 전자 에너지 손실 분광학 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정 절차
- BS ISO 10810:2010 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 분석 가이드
- PD ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석 오거 전자 분광법을 통한 화학 정보 도출
- BS ISO 18118:2015 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용한 균질 재료의 정량 분석 가이드
- 20/30380369 DC BS ISO 23420 마이크로빔 분석 전자현미경 전자 에너지 손실 분광학 에너지 분해능 결정
- 23/30461294 DC BS ISO 18118 표면 화학 분석 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용하는 Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법을 사용하여 균질 물질의 정량 분석을 위한 가이드
- 21/30404763 DC BS ISO 24639 마이크로빔 분석 분석 전자 현미경 전자 에너지 손실 분광학 원소 분석을 위한 에너지 스케일 교정 절차
- BS ISO 17973:2016 표면 화학 분석에서 분해능 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 규모 교정
- PD ISO/TR 23173:2021 표면 화학 분석 전자 분광학 나노입자 코팅의 두께 및 조성 측정
- BS ISO 16242:2011 표면 화학 분석 - AEC(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고
- BS ISO 14701:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 산화규소 두께 측정
- BS ISO 29081:2010 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 전하 제어 및 전하 조정 보고 방법.
- BS ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 실리카 두께 측정
- BS ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
- BS ISO 20903:2011 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고에 필요한 정보
- BS ISO 15471:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- BS ISO 16531:2013 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 광전자 분광법(XPS) 및 원자 방출 분광법(AES)의 깊이 프로파일링에서 이온 빔 교정 및 전류 또는 전류 밀도 관련 측정 방법.
- BS ISO 19318:2021 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법은 전하 제어 및 전하 보정 방법을 보고합니다.
- BS ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
- 20/30423741 DC BS ISO 19318 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법은 전하 제어 및 전하 보정 방법을 보고합니다.
- BS ISO 17973:2003 표면 화학 분석 중간 해상도 나선형 전자 분광계 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
- BS ISO 15632:2012 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석을 위한 에너지 분산형 X선 분광계 검사를 위해 선택된 장비의 사양 및 성능 매개변수
- BS ISO 15632:2021 전자 탐침 미세 분석용 에너지 분산형 X선 분광계 검사를 위한 마이크로빔 분석 사양 및 선택된 기기 성능 매개변수
- BS ISO 19668:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 추정 및 균질 재료의 원소 검출 한계 보고
- BS 3288-1:1997 가공 전력 절연체 및 가공 전력 도체 1부: 성능 및 일반 요구 사항
- BS 3288-1:2014 가공 전력 절연체 및 가공 전력 도체 1부: 성능 및 일반 요구 사항
- 19/30394914 DC BS ISO 15632 마이크로빔 분석 사양 및 전자 탐침 현미경 또는 전자 탐침 마이크로 분석기(EPMA)용 에너지 분산형 X선 분광기 검사를 위한 선택된 기기 성능 매개변수
- BS EN IEC 80601-2-71:2018 의료 전기 장비 기능성 근적외선 분광기(NIRS) 장비의 기본 안전 및 필수 성능에 대한 특별 요구 사항
- DD ISO/TS 10798:2011 나노기술은 단일벽 탄소 나노튜브를 특성화하기 위해 주사 전자 현미경과 에너지 분산형 X선 분광학을 사용합니다.
- BS ISO 17974:2002 표면 화학 분석 고해상도 나선형 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정
- BS EN IEC 61010-2-061:2021 측정, 제어 및 실험실용 전기 장비에 대한 안전 요구 사항 열 원자화 및 이온화 기능을 갖춘 실험실 원자 분광계에 대한 특별 요구 사항
American Society for Testing and Materials (ASTM), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Group Standards of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
International Organization for Standardization (ISO), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- ISO 16129:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 - X선 광전자 분광계의 일상적인 성능을 평가하는 방법
- ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항
- ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
- ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 척도의 선형성
- ISO 17109:2022 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
- ISO 10810:2019 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 분석 가이드
- ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
- ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 기기 성능 매개변수 설명
- ISO 23420:2021 마이크로빔 분석분석용 전자 현미경전자 에너지 손실 분광학 분석을 위한 에너지 분해능 결정 방법
- ISO/TR 19319:2003 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역에 대한 분석가 육안 검사
- ISO/TR 18394:2016 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 화학 정보 추출
- ISO 10810:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
- ISO/DIS 18118:2023 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용한 균질 재료의 정량 분석 가이드
- ISO/FDIS 18118:2023 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용한 균질 재료의 정량 분석 가이드
- ISO/DIS 17973:2023 표면 화학 분석에서 원소 분석 에너지 분해능 수준의 교정 오거 전자 분광계
- ISO 22309:2006 미세전자빔 분석 에너지 분산 분광계(EDS)를 이용한 정량 분석
- ISO/CD TR 18392:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 배경 측정 절차
- ISO/CD 17973 표면 화학 분석에서 분해능 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 규모 교정
- ISO 24639:2022 마이크로빔 분석분석 전자 현미경 전자 에너지 손실 분광법을 통한 원소 분석을 위한 에너지 스케일링 절차
- ISO 14701:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법 - 산화규소 두께 측정
- ISO 16242:2011 표면 화학 분석 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고
- ISO 29081:2010 표면 화학 분석, 오제 전자 분광학, 전하 제어 및 전하 조정 보고 방법.
- ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 이산화규소 두께 측정
- ISO 13424:2013 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법, 박막 분석 결과 보고
- ISO 20903:2019 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 결과 보고 시 필요한 피크 강도 및 정보를 결정하는 데 사용되는 방법
- ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
- ISO 16531:2013 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 AES(원자 방출 분광학) 및 XPS(광전자 분광학)의 깊이 프로파일링을 위한 이온빔 보정 및 전류 또는 전류 밀도 관련 측정 방법.
- ISO 15471:2004 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- ISO 15471:2016 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
- ISO/TS 10798:2011 나노기술 주사전자현미경과 X선 에너지 분광학을 이용한 단일암 탄소나노튜브의 특성 규명.
- ISO 17973:2016 표면 화학 분석 중간 해상도 나선형 전자 분광계 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
- ISO 17973:2002 표면 화학 분석 중간 해상도 나선형 전자 분광계 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
- ISO 15472:2010 표면 화학 분석.X선 광전자 분광계.에너지 스케일 교정
- ISO 15472:2001 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 스케일 교정
- ISO 20903:2011 표면 화학 분석 오제 전자 에너지 분광법 및 X선 광전자 분광법 결과 보고에 필요한 피크 강도 결정 방법 및 정보
- ISO/CD 5861 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 석영 결정 단색 Al Ka XPS 장비 강도 교정 방법
- ISO/DIS 5861:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 수정 결정 단색 Al Kα XPS 기기 강도 교정 방법
- ISO 19668:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 균질 물질의 원소 검출 한계 추정 및 보고
- IEC/DIS 80601-2-71:2011 의료 전기 장비 2-71부: 기능적 근적외선 분광법(기능적 NIRS) 장비의 기본 안전 및 필수 성능에 대한 특별 요구사항
- ISO 17974:2002 표면 화학 분석 고해상도 나선형 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
未注明发布机构, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Institute of Interconnecting and Packaging Electronic Circuits (IPC), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
IPC - Association Connecting Electronics Industries, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Machinery, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Association Francaise de Normalisation, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
KR-KS, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Judicatory, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Nuclear Industry, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Taiwan Provincial Standard of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Public Safety Standards, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Petroleum, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Fujian Provincial Standard of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Standard Association of Australia (SAA), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Guangdong Provincial Standard of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
IEEE - The Institute of Electrical and Electronics Engineers@ Inc., 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
RU-GOST R, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
International Electrotechnical Commission (IEC), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Guangxi Provincial Standard of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Medicine, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- YY/T 1766.3-2023 X-ray 컴퓨터 단층촬영 장비의 영상 품질 평가 방법 3부: 이중 에너지 영상 및 에너지 스펙트럼 응용의 성능 평가
Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- IEEE Std 1900.1-2008 동적 스펙트럼 액세스에 대한 IEEE 표준 정의 및 개념: 신흥 무선 네트워크, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 용어
- IEEE Std 1900.1-2019 동적 스펙트럼 액세스 정의 및 개념에 대한 IEEE 표준: 신흥 무선 네트워크, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 용어
- IEEE Unapproved Draft Std P1900.1/D4.00, Mar 2008 동적 스펙트럼 액세스에 대한 IEEE 초안 표준 정의 및 개념: 신흥 무선 네트워크, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 용어
- IEEE Unapproved Draft Std P1900.1/D2.0, Aug 2007 신흥 무선 네트워크, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 동적 스펙트럼 액세스 정의 및 개념 용어에 대한 IEEE 초안 표준
- P1900.1/D1, September 2018 동적 스펙트럼 액세스에 대한 IEEE 초안 표준 정의 및 개념: 신흥 무선 네트워크, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 용어
- IEEE P1900.1/D1, September 2018 동적 스펙트럼 액세스에 대한 IEEE 초안 표준 정의 및 개념: 신흥 무선 네트워크, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 용어
- IEEE P1900.1/D2, September 2018 동적 스펙트럼 액세스 정의 및 개념에 대한 IEEE 승인 초안 표준: 신흥 무선 네트워크, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 용어
- IEEE 1900.1a-2012 동적 스펙트럼 액세스에 대한 정의 및 개념: 무선 네트워크 형성, 시스템 기능 및 스펙트럼 관리와 관련된 용어 수정 1: 새로운 용어 및 관련 정의 추가
Military Standards (MIL-STD), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
European Telecommunications Standards Institute (ETSI), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Danish Standards Foundation, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Zhejiang Provincial Standard of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Non-ferrous Metal, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- YS/T 644-2007 백금-루테늄 합금 필름의 테스트 방법 X선 광전자 분광법을 통한 합금 백금 및 합금 루테늄 함량 측정.
GOSTR, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
ETSI - European Telecommunications Standards Institute, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- EG 201 788-2001 전자기 호환성 및 무선 스펙트럼 문제(ERM), ETSI 시스템 참조 문서(V1.1.1)의 성능
- TR 102 886-2011 전자기 호환성 및 무선 스펙트럼 문제(ERM), UHF 대역의 스마트 계량(SM) 단거리 장치(SRD)의 기술적 특성, 시스템 참조 문서 스마트 계량 P에 대한 유럽 액세스 사양에 대한 SRD 스펙트럼 요구 사항
Professional Standard - Commodity Inspection, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- SN/T 2003.4-2006 전자 및 전기 제품의 납, 수은, 크롬, 카드뮴 및 브롬 측정 4부: 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 정성 스크리닝 방법
- SN/T 2003.5-2006 전자 및 전기 제품의 납, 수은, 크롬, 카드뮴 및 브롬 측정 5부: 에너지 분산형 X선 형광 분광법 정량 스크리닝 방법
VN-TCVN, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Qinghai Provincial Standard of the People's Republic of China, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Indonesia Standards, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
International Telecommunication Union (ITU), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
European Committee for Standardization (CEN), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
American National Standards Institute (ANSI), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Underwriters Laboratories (UL), 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Military Standard of the People's Republic of China-Commission of Science,Technology and Industry for National Defence, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
Professional Standard - Petrochemical Industry, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
商务部, 전자 에너지 분광학 및 에너지 분광학
- SB/T 10922-2012 유도 결합 플라즈마 질량 분석법을 통해 육류 및 육류 제품의 크롬, 구리, 총 비소, 카드뮴, 총 수은 및 납 측정