ZH
EN
ES

химия поверхности

химия поверхности, Всего: 407 предметов.

В международной стандартной классификации классификациями, относящимися к химия поверхности, являются: Словари, Аналитическая химия, Применение информационных технологий, Линейные и угловые измерения, Оптика и оптические измерения, Термическая обработка, Обработка поверхности и покрытие.

International Organization for Standardization (ISO), химия поверхности

ISO/CD 20289:2017 Химический анализ поверхности
ISO 18115:2001 Химический анализ поверхности - Словарь
ISO 14975:2000 Химический анализ поверхности - Форматы информации
ISO 18115:2001/Amd 1:2006 Химический анализ поверхности - Словарь; Поправка 1
ISO 18115:2001/Amd 2:2007 Химический анализ поверхности - Словарь; Поправка 2
ISO 14976:1998 Химический анализ поверхности — формат передачи данных
ISO 18117:2009 Химический анализ поверхности. Обращение с образцами перед анализом.
ISO/TR 14187:2020 Химический анализ поверхности. Характеристика наноструктурированных материалов.
ISO/TR 14187:2011 Химический анализ поверхности. Характеристика наноструктурированных материалов.
ISO/TR 15969:2001 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Измерение глубины распыления.
ISO/TS 15338:2020 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия тлеющего разряда. Рабочие процедуры.
ISO/TR 18394:2016 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Получение химической информации.
ISO/TR 15969:2021 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Измерение глубины распыления.
ISO 18337:2015 Химический анализ поверхности. Характеристика поверхности. Измерение латерального разрешения конфокального флуоресцентного микроскопа.
ISO 24465:2023 Химический анализ поверхности. Определение минимальной обнаруживаемости устройства поверхностного плазмонного резонанса.
ISO 10810:2010 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по анализу
ISO 22048:2004 Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов.
ISO 10810:2019 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Руководство по анализу.
ISO 20289:2018 Химический анализ поверхности - Рентгенофлуоресцентный анализ воды с полным отражением
ISO/TR 18394:2006 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Получение химической информации.
ISO 15472:2010 Химический анализ поверхности - Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры - Калибровка энергетических шкал
ISO 15472:2001 Химический анализ поверхности - Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры - Калибровка энергетических шкал
ISO 18116:2005 Химический анализ поверхности. Рекомендации по подготовке и креплению образцов для анализа
ISO/TR 18392:2005 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы определения фона.
ISO/TR 19693:2018 Химический анализ поверхности. Характеристика функциональных стеклянных подложек для биосенсорных целей.
ISO 18115-1:2010 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии.
ISO 18115-1:2013 Химический анализ поверхности.Словарь.Часть 1: Общие термины и термины, используемые в спектроскопии.
ISO/TS 15338:2009 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия тлеющего разряда (GD-MS). Введение в использование.
ISO 11039:2012 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Измерение скорости дрейфа.
ISO 18115-2:2021 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 2. Термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии.
ISO/CD TR 18392:2023 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы определения фона.
ISO 14701:2018 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния.
ISO 18115-3:2022 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 3. Термины, используемые в анализе оптического интерфейса.
ISO 28600:2011 Химический анализ поверхности - формат передачи данных для сканирующей зондовой микроскопии
ISO 16242:2011 Химический анализ поверхности - запись и отчетность данных в электронной оже-спектроскопии (AES)
ISO/DIS 23124:2023 Химический анализ поверхности — измерение латерального и осевого разрешения рамановского микроскопа.
ISO 14701:2011 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния.
ISO 13424:2013 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о результатах тонкопленочного анализа.
ISO 20579-3:2021 Химический анализ поверхности. Обработка проб, подготовка и монтаж. Часть 3. Биоматериалы.
ISO 18115-2:2013 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 2. Термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии.
ISO/TS 25138:2019 Химический анализ поверхности. Анализ пленок оксидов металлов методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
ISO 14707:2015 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
ISO 15470:2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
ISO 24236:2005 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
ISO 12406:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования мышьяка в кремнии.
ISO 14707:2000 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
ISO 14707:2021 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
ISO 16243:2011 Химический анализ поверхности - запись и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)
ISO 11775:2015 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение констант нормальной пружины кантилевера.
ISO 17560:2014 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования бора в кремнии.
ISO/FDIS 18115-1 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии.
ISO 18115-1:2023 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии.
ISO 15471:2004 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
ISO 15471:2016 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
ISO/TR 23173:2021 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Измерение толщины и состава покрытий наночастиц.
ISO 14606:2000 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
ISO 14606:2015 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
ISO/TS 25138:2010 Химический анализ поверхности. Анализ пленок оксидов металлов методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
ISO 14606:2022 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
ISO 15470:2004 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
ISO 29081:2010 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
ISO 17560:2002 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования бора в кремнии.
ISO 24237:2005 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
ISO/DIS 17973:2023 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
ISO 18115-2:2010 Анализ химического состава поверхностей — Словарь — Часть 2: Термины, используемые в микроскопии с помощью зонда и выметания (премьерное издание)
ISO 11952:2019 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение геометрических величин с помощью СЗМ. Калибровка измерительных систем.
ISO 11952:2014 Химический анализ поверхности - Сканирующая зондовая микроскопия - Определение геометрических величин с помощью СЗМ: Калибровка измерительных систем
ISO 19318:2004 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
ISO 19830:2015 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Минимальные требования к отчетности для подбора пиков в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.
ISO/CD 17973 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
ISO 19318:2021 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
ISO 14706:2000 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
ISO 14706:2014 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
ISO/TR 19319:2013 Химический анализ поверхности. Фундаментальные подходы к определению латерального разрешения и резкости в лучевых методах.
ISO 14237:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
ISO 14237:2000 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
ISO 16962:2017 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
ISO 17973:2016 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
ISO 17973:2002 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
ISO 21270:2004 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.
ISO 18516:2019 Химический анализ поверхности. Определение поперечного разрешения и резкости лучевыми методами в диапазоне от нанометров до микрометров.
ISO/TS 18507:2015 Химический анализ поверхности. Использование рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения в биологическом анализе и анализе окружающей среды.
ISO 17331:2004/Amd 1:2010 Химический анализ поверхности - Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов кремниевых пластин и их определение методом рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF); Поправка 1
ISO 27911:2011 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение и калибровка латерального разрешения ближнепольного оптического микроскопа.
ISO 24417:2022 Химический анализ поверхности. Анализ металлических нанослоев на подложках на основе железа методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
ISO 18516:2006 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения.
ISO 16962:2005 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
ISO 18114:2003 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов.
ISO 18114:2021 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов.
ISO/TS 22933:2022 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод измерения массового разрешения в ВИМС.
ISO 17331:2004 Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов кремниевых пластин и их определение методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
ISO/TR 22335:2007 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Измерение скорости распыления: метод реплики сетки с использованием механического щупового профилометра.
ISO/TR 16268:2009 Химический анализ поверхности. Предлагаемая процедура сертификации удерживаемой ареиновой дозы в рабочем эталонном материале, полученном методом ионной имплантации.
ISO 11505:2012 Химический анализ поверхности. Общие процедуры количественного профилирования состава по глубине методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
ISO 19668:2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Оценка и отчетность о пределах обнаружения элементов в однородных материалах.
ISO 17974:2002 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.
ISO 20341:2003 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием эталонных материалов с несколькими дельта-слоями.
ISO/CD 5861 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Метод калибровки интенсивности для монохроматированных кварцевых приборов Al Kα XPS.
ISO/DIS 5861:2023 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Метод калибровки интенсивности для монохроматированных кварцевых приборов Al Kα XPS.
ISO 16129:2012 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Процедуры оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра.
ISO 13095:2014 Химический анализ поверхности. Атомно-силовая микроскопия. Процедура определения in situ профиля хвостовика зонда АСМ, используемого для измерения наноструктур.
ISO 23812:2009 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод калибровки по глубине кремния с использованием эталонных материалов с несколькими дельта-слоями.
ISO 16129:2018 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Процедуры оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра.
ISO 13084:2018 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс для времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов.
ISO/CD 20579-1:2023 Химический анализ поверхности. Обращение с пробами, их подготовка и монтаж. Часть 1. Документирование и отчетность по обращению с пробами перед анализом.
ISO/DIS 20579-1:2023 Химический анализ поверхности. Обращение с пробами, их подготовка и монтаж. Часть 1. Документирование и отчетность по обращению с пробами перед анализом.
ISO 22415:2019 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод определения объема выхода при профилировании глубины аргонового кластерного распыления органических материалов.

Standard Association of Australia （SAA）, химия поверхности

AS ISO 18115:2006 Химический анализ поверхности - Словарь
AS ISO 14975:2006 Химический анализ поверхности - Форматы информации
AS ISO 14976:2006 Химический анализ поверхности — формат передачи данных
AS ISO 18116:2006 Химический анализ поверхности. Рекомендации по подготовке и креплению образцов для анализа
AS ISO 22048:2006 Химический анализ поверхности - информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов
AS ISO 15472:2006 Химический анализ поверхности - Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры - Калибровка энергетических шкал
AS ISO 24237:2006 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
AS ISO 14606:2006 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
AS ISO 15470:2006 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
AS ISO 19318:2006 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
AS ISO 17560:2006 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования бора в кремнии.
AS ISO 18114:2006 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов.
AS ISO 17974:2006 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), химия поверхности

KS D ISO 18115:2006 Химический анализ поверхности－Словарь
KS D ISO 18115-2006(2021) Химический анализ поверхности－Словарь
KS D ISO 18115-2006(2016) Химический анализ поверхности－Словарь
KS D ISO 14975:2011 Химический анализ поверхности. Форматы информации
KS D ISO 14975-2011(2016) Химический анализ поверхности－Информационные форматы
KS D ISO 14975-2011(2021) Химический анализ поверхности－Информационные форматы
KS D ISO 14976:2011 Химический анализ поверхности－Формат передачи данных
KS D ISO 14976-2011(2016) Химический анализ поверхности－Формат передачи данных
KS D ISO 14976-2011(2021) Химический анализ поверхности－Формат передачи данных
KS D ISO TR 15969-2011(2021) Химический анализ поверхности－Профилирование глубины－Измерение глубины распыления
KS D ISO TR 15969-2011(2016) Химический анализ поверхности－Профилирование глубины－Измерение глубины распыления
KS D ISO TR 15969:2011 Химический анализ поверхности－Профилирование глубины－Измерение глубины распыления
KS D ISO 22048-2005(2020) Химический анализ поверхности - информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов
KS D ISO 22048:2005 Химический анализ поверхности - информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов
KS D ISO 15472:2003 Химический анализ поверхности-Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры-Калибровка энергетических шкал
KS D ISO 15472-2003(2018) Химический анализ поверхности — рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия — коррекция калибровки по энергии
KS D ISO 14707-2003(2018) Химический анализ поверхности — светящийся фронтально-эмиссионный спектрометр AIA (GD-OES) — брошюра
KS D ISO 15471-2005(2020) Химический анализ поверхности－Электронная оже-спектроскопия－Описание выбранных параметров работы прибора
KS D ISO 15470-2005(2020) Химический анализ поверхности－Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия－Описание выбранных параметров работы прибора
KS D ISO 14707:2003 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
KS D ISO 14706-2003(2018) Химический анализ поверхности - определение элементарных примесей на поверхности кремниевой пластины с помощью рентгенофлуоресцентного анализатора полного отражения
KS D ISO 14606:2003 Химический анализ поверхности－Профилирование глубины распыления－Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов
KS D ISO 15471:2005 Химический анализ поверхности－Электронная оже-спектроскопия－Описание выбранных параметров работы прибора
KS D ISO 17560-2003(2018) Химический анализ поверхности - массовый анализ вторичных ионов - метод измерения распределения бора по глубине в кремнии
KS D ISO 14706:2003 Химический анализ поверхности – определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
KS D ISO 17560:2003 Поверхностный химический анализ－Вторичная масс-спектрометрия－Метод глубинного профиля бора в кремнии
KS D ISO 15470:2005 Химический анализ поверхности－Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия－Описание выбранных параметров работы прибора
KS D ISO 14606-2003(2018) Химический анализ поверхности. Профиль длины толкателя. Оптимизация использования многослойной системы в качестве эталонного материала.
KS D ISO 17973-2011(2021) Химический анализ поверхности－Электронные оже-спектрометры среднего разрешения－Калибровка энергетических шкал для элементного анализа
KS D ISO 17973-2011(2016) Химический анализ поверхности－Электронные оже-спектрометры среднего разрешения－Калибровка энергетических шкал для элементного анализа
KS D ISO 19318-2005(2020) Химический анализ поверхности – рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия – отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
KS D ISO 19318:2005 Химический анализ поверхности – рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия – отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
KS D ISO 17973:2011 Химический анализ поверхности－Электронные оже-спектрометры среднего разрешения－Калибровка энергетических шкал для элементного анализа
KS D ISO 21270:2005 Химический анализ поверхности－Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры－Линейность шкалы интенсивности
KS D ISO 17974-2011(2021) Химический анализ поверхности－Электронные оже-спектрометры высокого разрешения－Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния
KS D ISO 17974-2011(2016) Химический анализ поверхности－Электронные оже-спектрометры высокого разрешения－Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния
KS D ISO 18114:2005 Химический анализ поверхности－Масс-спектрометрия вторичных ионов－Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов
KS D ISO 21270-2005(2020) Химический анализ поверхности－Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры－Линейность шкалы интенсивности
KS D ISO 17974:2011 Химический анализ поверхности－Электронные оже-спектрометры высокого разрешения－Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния
KS D ISO 20341:2005 Химический анализ поверхности – масс-спектрометрия вторичных ионов – метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием нескольких эталонных материалов с дельта-слоями.
KS D ISO 18114-2005(2020) Химический анализ поверхности－Масс-спектрометрия вторичных ионов－Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов
KS D ISO 20341-2005(2020) Химический анализ поверхности – масс-спектрометрия вторичных ионов – метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием нескольких эталонных материалов с дельта-слоями.
KS D ISO 14237:2003 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Определение концентрации атомов бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), химия поверхности

JIS K 0147:2004 Химический анализ поверхности. Словарь
JIS K 0142:2000 Химический анализ поверхности. Форматы информации
JIS K 0141:2000 Химический анализ поверхности. Формат передачи данных.
JIS K 0181:2021 Химический анализ поверхности. Рентгенофлуоресцентный анализ воды с полным отражением.
JIS K 0154:2017 Химический анализ поверхности. Руководство по подготовке и закреплению образцов для анализа
JIS K 0168:2011 Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов.
JIS K 0164:2023 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профиля бора в кремнии.
JIS K 0145:2002 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал.
JIS K 0147-2:2017 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 2. Термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии.
JIS K 0144:2001 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
JIS K 0144:2018 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
JIS K 0147-1:2017 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии.
JIS K 0161:2010 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
JIS K 0162:2010 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
JIS K 0164:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профиля бора в кремнии.
JIS K 0152:2014 Химический анализ поверхности.Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия.Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
JIS K 0146:2002 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
JIS K 0148:2005 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
JIS K 0165:2011 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
JIS K 0143:2023 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
JIS K 0143:2000 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
JIS K 0156:2018 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод калибровки по глубине кремния с использованием эталонных материалов с несколькими дельта-слоями.
JIS K 0150:2009 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
JIS K 0163:2010 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Определение коэффициентов относительной чувствительности по ионно-имплантированным эталонным материалам.
JIS K 0166:2011 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.
JIS K 0157:2021 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс для времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов.

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, химия поверхности

GB/T 22461-2008 Химический анализ поверхности. Словарь.
GB/T 21007-2007 Химический анализ поверхности.Форматы информации.
GB/T 19499-2004 Химический анализ поверхности. Формат передачи данных.
GB/T 28894-2012 Химический анализ поверхности. Передача образцов перед анализом.
GB/T 29557-2013 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Измерение глубины напыления.
GB/Z 32494-2016 Анализ поверхности. Химический анализ. Оже-электронная спектроскопия. Интерпретация химической информации.
GB/T 19502-2004 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OSE). Введение в использование.
GB/T 30704-2014 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Рекомендации по проведению анализа.
GB/T 22461.1-2023 Словарь химического анализа поверхности, часть 1: общие и спектроскопические термины
GB/T 42360-2023 Рентгенофлуоресцентный спектроскопический анализ воды с полным отражением для химического анализа поверхности
GB/T 30815-2014 Химический анализ поверхности. Рекомендации по подготовке и закреплению образцов для анализа.
GB/Z 32490-2016 Методика определения фона методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для химического анализа поверхности
GB/T 22461.2-2023 Глоссарий по химическому анализу поверхности. Часть 2: Терминология сканирующей зондовой микроскопии
GB/T 25187-2010 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Описание некоторых параметров работы прибора.
GB/T 32495-2016 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования мышьяка в кремнии.
GB/T 22571-2008 Химический анализ поверхности.Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры.Калибровка энергетических шкал.
GB/T 29558-2013 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
GB/T 28892-2012 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
GB/T 42543-2023 Определение нормальной упругой константы консольной балки методом химического анализа поверхности сканирующей зондовой микроскопии
GB/T 28633-2012 Химический анализ поверхности.Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия.Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
GB/T 20175-2006 Химический анализ поверхности. Определение профиля глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
GB/T 30701-2014 Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонов кремниевых пластин и их определение методом рентгенофлуоресцентной (TXRF) спектроскопии полного отражения.
GB/T 29732-2013 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
GB/T 29731-2013 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.
GB/T 25185-2010 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о методах контроля и коррекции заряда.
GB/T 28632-2012 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения.
GB/T 29559-2013 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
GB/T 21006-2007 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.
GB/T 20176-2006 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
GB/T 25186-2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности по ионно-имплантированным стандартным образцам.
GB/T 22572-2008 Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием многослойных эталонных материалов для вторичной ионной масс-спектрометрии в химии поверхности
GB/T 42659-2023 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение геометрических величин с помощью сканирующей зондовой микроскопии. Калибровка измерительной системы.

British Standards Institution (BSI), химия поверхности

BS ISO 14975:2000 Химический анализ поверхности - Форматы информации
BS ISO 14975:2001 Химический анализ поверхности. Информационные форматы
BS ISO 14976:1998 Химический анализ поверхности — формат передачи данных
BS ISO 18117:2009 Химический анализ поверхности. Обращение с образцами перед анализом.
PD ISO/TR 14187:2020 Химический анализ поверхности. Характеристика наноструктурированных материалов
BS ISO 18115-1:2010 Химический анализ поверхности. Словарь. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии.
BS ISO 18115-1:2013 Химический анализ поверхности. Словарный запас. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии
BS ISO 13424:2013 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о результатах тонкопленочного анализа
DD ISO/TR 15969:2001 Химический анализ поверхности. Глубинное профилирование. Измерение глубины распыления
BS DD ISO/TR 15969:2001 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Измерение глубины распыления.
BS PD ISO/TR 15969:2021 Химический анализ поверхности. Глубинное профилирование. Измерение глубины распыления
BS ISO 24465:2023 Химический анализ поверхности. Определение минимальной обнаруживаемости устройства поверхностного плазмонного резонанса
PD ISO/TR 18394:2016 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Получение химической информации
BS ISO 18337:2015 Химический анализ поверхности. Характеристика поверхности. Измерение латерального разрешения конфокального флуоресцентного микроскопа
BS ISO 18115-3:2022 Химический анализ поверхности. Словарь. Термины, используемые в анализе оптического интерфейса.
BS ISO 11039:2012 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Измерение скорости дрейфа
BS ISO 14707:2015 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (ОЭС). Введение в использование
BS ISO 14707:2000 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
BS ISO 18115-2:2013 Химический анализ поверхности. Словарный запас. Термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии
BS ISO 20289:2018 Химический анализ поверхности. Рентгенофлуоресцентный анализ воды с полным отражением
PD ISO/TS 15338:2020 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия тлеющего разряда. Операционные процедуры
BS PD ISO/TR 18394:2016 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Получение химической информации
21/30404376 DC BS ISO 24465. Химический анализ поверхности. Определение минимальной обнаруживаемости устройства поверхностного плазмонного резонанса
BS ISO 10810:2010 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Рекомендации по анализу
BS ISO 18116:2005 Химический анализ поверхности. Рекомендации по подготовке и креплению образцов для анализа
BS DD ISO/TS 15338:2009 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия тлеющего разряда (GD-MS). Введение в использование.
BS ISO 22048:2004 Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов
BS ISO 22048:2005 Химический анализ поверхности - информационный формат для статической масс-спектрометрии вторичных ионов
BS ISO 28600:2011 Химический анализ поверхности. Формат передачи данных для сканирующей зондовой микроскопии
BS ISO 18115-2:2010 Химический анализ поверхности - Словарь - Термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии
BS ISO 14701:2011 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния
BS ISO 18115-2:2021 Химический анализ поверхности. Словарь - Термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии.
PD ISO/TR 15969:2021 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Глубинное профилирование. Измерение глубины распыления
BS DD ISO/TS 25138:2011 Химический анализ поверхности. Анализ пленок оксидов металлов методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
BS ISO 15472:2010 Химический анализ поверхности - Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры - Калибровка энергетических шкал
BS ISO 16242:2011 Химический анализ поверхности. Запись и отчетность данных в электронной оже-спектроскопии (AES)
BS ISO 10810:2019 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Рекомендации по анализу
PD ISO/TR 19693:2018 Химический анализ поверхности. Характеристика функциональных стеклянных подложек для биосенсорных целей
BS PD ISO/TR 23173:2021 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Измерение толщины и состава покрытий наночастиц
BS ISO 16243:2011 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)
BS ISO 11775:2015 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение констант нормальной пружины кантилевера
BS ISO 12406:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования мышьяка в кремнии
BS ISO 18115-1:2023 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Словарный запас. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии
BS ISO 14701:2018 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Измерение толщины оксида кремния
BS ISO 15471:2005 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
BS ISO 24236:2005 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
23/30420097 DC BS ISO 23124 Химический анализ поверхности. Измерение латерального и осевого разрешения рамановского микроскопа
BS ISO 14707:2021 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (ОЭС). Введение в использование
PD ISO/TR 23173:2021 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Измерение толщины и состава покрытий наночастиц
21/30385921 DC БС ИСО 18115-3. Химический анализ поверхности. Словарный запас. Часть 3. Термины, используемые при анализе оптического интерфейса
BS ISO 24237:2005 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
BS ISO 17560:2002 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования бора в кремнии.
BS ISO 15470:2005 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора.
BS ISO 15470:2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора
BS ISO 29081:2010 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
BS ISO 17560:2014 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования бора в кремнии
PD ISO/TS 25138:2019 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Анализ пленок оксидов металлов методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
BS ISO 21270:2005 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.
BS ISO 11505:2012 Химический анализ поверхности. Общие процедуры количественного профилирования состава по глубине методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
BS ISO 15471:2016 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Описание выбранных параметров работы прибора
18/30337640 DC БС ИСО 20579-3. Химический анализ поверхности. Обработка проб, подготовка и монтаж. Часть 3. Биоматериалы
BS ISO 14606:2015 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов
BS ISO 14606:2000 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
BS ISO 14606:2001 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
BS ISO 18114:2003 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов.
BS ISO 19318:2005 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
BS ISO 19830:2015 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Минимальные требования к отчетности для подбора пиков в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
BS ISO 11952:2019 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение геометрических величин с помощью СЗМ: Калибровка измерительных систем
PD ISO/TS 18507:2015 Химический анализ поверхности. Использование рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения в биологическом анализе и анализе окружающей среды.
22/30433735 DC БС ИСО 18115-1. Химический анализ поверхности. Словарь - Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии
BS ISO 17973:2003 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
BS PD ISO/TS 18507:2015 Химический анализ поверхности. Использование рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения в биологическом анализе и анализе окружающей среды.
BS ISO 16962:2017 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
BS ISO 14237:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
15/30291643 DC BS ISO 18516. Химический анализ поверхности. Определение латерального разрешения и резкости в лучевых методах.
BS ISO 11505:2013 Химический анализ поверхности. Общие процедуры количественного профилирования состава по глубине методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
BS ISO 27911:2011 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение и калибровка латерального разрешения оптического микроскопа ближнего поля
12/30265699 DC БС ИСО 18115-1 АМД1. Химический анализ поверхности. Словарный запас. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии
BS ISO 14706:2000 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
BS ISO 14706:2014 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
BS ISO 14706:2001 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
21/30440164 DC BS ISO 14606. Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов
BS ISO 18516:2006 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения.
BS ISO 13084:2011 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Калибровка шкалы масс времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов
BS ISO 19668:2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Оценка и отчетность по пределам обнаружения элементов в однородных материалах
BS ISO 21270:2004 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности
12/30265696 DC БС ИСО 18115-2 АМД1. Химический анализ поверхности. Словарный запас. Часть 2. Термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии
BS ISO 24417:2022 Химический анализ поверхности. Анализ металлических нанослоев на подложках на основе железа методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
BS ISO 17331:2004+A1:2010 Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонов кремниевых пластин и их определение методом рентгенофлуоресцентной (TXRF) спектроскопии полного отражения
BS ISO 14606:2022 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов
BS ISO 17974:2002 Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.
BS ISO 20341:2003 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием эталонных материалов с несколькими дельта-слоями.
PD ISO/TR 19319:2013 Химический анализ поверхности. Фундаментальные подходы к определению латерального разрешения и резкости в лучевых методах
BS ISO 16129:2012 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Процедуры оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра
BS ISO 13095:2014 Химический анализ поверхности. Атомно-силовая микроскопия. Процедура определения in situ профиля хвостовика зонда АСМ, используемого для измерения наноструктур
PD ISO/TR 22335:2007 Химический анализ поверхности. Глубинное профилирование. Измерение скорости распыления. Метод сетки-реплики с использованием механического щупового профилометра.
BS ISO 17973:2016 Отслеживаемые изменения. Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа
BS ISO 17862:2013 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Линейность шкалы интенсивности в времяпролетных масс-анализаторах со счетом одиночных ионов
PD ISO/TR 16268:2009 Химический анализ поверхности. Предлагаемая процедура сертификации удерживаемой ареиновой дозы в рабочем эталонном материале, полученном методом ионной имплантации
21/30405786 DC BS ISO 24417. Химический анализ поверхности. Анализ металлических нанослоев на подложках на основе железа методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
20/30423741 DC BS ISO 19318. Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Отчетность о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда

未注明发布机构, химия поверхности

BS ISO 14975:2000(2012) Химический анализ поверхности. Форматы информации
BS ISO 18117:2009(2015) Химический анализ поверхности. Обращение с образцами перед анализом.
ISO 14976:1998/Cor 1:1999 Формат передачи данных химического анализа поверхности Техническое исправление 1
BS ISO 22048:2004(2005) Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической вторично-ионной масс-спектрометрии.
JIS K 0182:2023 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение констант нормальной пружины кантилевера.
BS ISO 17974:2002(2010) Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.
BS ISO 18516:2006(2010) Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения.
BS ISO 21270:2004(2010) Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.
BS ISO 20341:2003(2010) Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием нескольких эталонных материалов дельта-слоя.

Association Francaise de Normalisation, химия поверхности

NF X21-052/A2:2008 Химический анализ поверхности. Словарь. Поправка 2.
NF X21-052/A1:2008 Химический анализ поверхности. Словарь. ПОПРАВКА 1.
NF ISO 18117:2009 Химический анализ поверхностей. Обработка образцов перед анализом.
NF X21-065*NF ISO 18117:2009 Химический анализ поверхности. Обращение с образцами перед анализом.
NF ISO 18116:2006 Химический анализ поверхностей. Рекомендации по подготовке и сборке проб для анализа
NF X21-055:2006 Химический анализ поверхности - Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры - Калибровка энергетических шкал.
NF X21-056*NF ISO 18116:2006 Химический анализ поверхности. Рекомендации по подготовке и креплению образцов для анализа
NF ISO 14707:2006 Химический анализ поверхностей. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда. Введение в ее использование.
NF X21-071:2011 Химический анализ поверхности - Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия - Руководство по анализу.
NF ISO 16242:2012 Химический анализ поверхностей – регистрация и отчетность данных оже-электронной спектроскопии (AES)
NF X21-069-1:2010 Химический анализ поверхности - Словарь - Часть 1: общие термины и термины, используемые в спектроскопии.
NF X21-069-2:2010 Химический анализ поверхности - Словарь - Часть 2: термины, используемые в сканирующей зондовой микроскопии.
NF X21-072*NF ISO 16242:2012 Химический анализ поверхности - запись и отчетность данных в электронной оже-спектроскопии (AES).
NF ISO 24236:2006 Химический анализ поверхностей. Электронная оже-спектроскопия. Повторяемость и постоянство энергетической шкалы.
NF EN ISO 14644-10:2022 Чистые помещения и связанные с ними контролируемые среды. Часть 10. Оценка химической чистоты поверхностей.
NF X21-073*NF ISO 16243:2012 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS).
NF X21-053*NF ISO 14707:2006 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.
NF ISO 16243:2012 Химический анализ поверхностей - регистрация и отчетность данных рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)
NF X21-059*NF ISO 24236:2006 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Повторяемость и постоянство шкалы интенсивности.
NF X21-062*NF ISO 14606:2008 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
NF X21-068*NF ISO 29081:2010 Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия. Отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
NF X21-051*NF ISO 17560:2006 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод глубинного профилирования бора в кремнии.
NF ISO 29081:2010 Химический анализ поверхностей - Электронная оже-спектроскопия - Указание реализуемых методов контроля и коррекции заряда.
NF ISO 17973:2006 Химический анализ поверхности — электронные оже-спектрометры среднего разрешения — калибровка энергетических шкал для элементного анализа
NF ISO 17560:2006 Химический анализ поверхностей. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Дозировка бора в кремнии методом профилирования толщины.
NF X21-054*NF ISO 17973:2006 Химический анализ поверхности - Электронные оже-спектрометры среднего разрешения - Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
NF X21-070*NF ISO 14237:2010 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение атомной концентрации бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
NF X21-061:2008 Химический анализ поверхности - Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия - Определение латерального разрешения.
FD X21-063*FD ISO/TR 22335:2008 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Измерение скорости распыления: метод реплики сетки с использованием механического щупового профилометра.
NF ISO 23812:2009 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод калибровки по глубине для кремния с использованием эталонных материалов с несколькими дельта-слоями.
NF ISO 14237:2010 Химический анализ поверхностей. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Определение атомов бора в кремнии с использованием однородно легированных материалов.
NF ISO 17974:2009 Химический анализ поверхности - Оже-электронные спектрометры высокого разрешения - Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния
NF ISO 14606:2008 Химический анализ поверхностей. Профилирование толщины бомбардировкой. Оптимизация с использованием одно- или многослойных систем в качестве эталонных материалов.
NF X21-067*NF ISO 17974:2009 Химический анализ поверхности - Электронные оже-спектрометры высокого разрешения - Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, химия поверхности

GB/T 33498-2017 Химический анализ поверхности. Характеристика наноструктурированных материалов.
GB/T 36052-2018 Химический анализ поверхности — формат передачи данных для сканирующей зондовой микроскопии.
GB/T 22571-2017 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал.
GB/T 32996-2016 Химический анализ поверхности. Анализ пленок оксидов металлов методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
GB/T 32565-2016 Химический анализ поверхности — запись и отчетность данных с помощью электронной оже-спектроскопии (AES).
GB/T 32997-2016 Химический анализ поверхности. Общие процедуры количественного профилирования состава по глубине методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.
GB/T 33502-2017 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS).
GB/T 32999-2016 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Измерение скорости распыления: метод реплики сетки с использованием механического щупового профилометра.
GB/T 32998-2016 Химический анализ поверхности — электронная оже-спектроскопия — отчет о методах, используемых для контроля заряда и коррекции заряда.
GB/T 34174-2017 Химический анализ поверхности. Предлагаемая процедура подтверждения удерживаемой ареиновой дозы в рабочем эталонном материале, полученном методом ионной имплантации.

API - American Petroleum Institute, химия поверхности

API PUBL 4380-1985 Поверхностно-химические аспекты отложений при разливах нефти - Заключительный отчет

KR-KS, химия поверхности

KS D ISO 14707-2003(2023) Химический анализ поверхности - Эмиссионный спектрометр тлеющего разряда (GD-OES) - Введение
KS D ISO 15472-2003(2023) Химический анализ поверхности. Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр. Калибровка энергетической шкалы.
KS D ISO 17560-2003(2023) Химический анализ поверхности - масс-спектрометрия вторичных ионов - полевой метод измерения распределения бора по глубине в кремнии
KS D ISO 14706-2003(2023) Химический анализ поверхности - определение элементарных примесей на поверхности кремниевой пластины с помощью рентгенофлуоресцентного анализатора полного отражения

CZ-CSN, химия поверхности

CSN 03 9046-1954 Химический контроль луженых поверхностей
CSN 91 0280-1987 Мебель. Метод определения устойчивости поверхности к действию химических веществ

RU-GOST R, химия поверхности

GOST 19905-1974 Укрепление метизов методом химико-термической обработки поверхности. Содержание общих требований
GOST 23738-1985 Ванны автодействующих линий химической, электрохимической обработки поверхности и нанесения покрытий. Основные параметры и размеры
GOST 23739-1985 Автооператоры линий химической, электрохимической обработки поверхности и изготовления покрытий. Основные параметры и размеры
GOST R ISO 16242-2016 Государственная система обеспечения единства измерений. Химический анализ поверхности. Запись и отчетность данных в электронной оже-спектроскопии (AES)

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, химия поверхности

GB/T 41072-2021 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Рекомендации по анализу ультрафиолетовой фотоэлектронной спектроскопии.
GB/T 40109-2021 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод глубинного профиля бора в кремнии.
GB/T 36401-2018 Химический анализ поверхности — рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия — отчет о результатах анализа тонких пленок.
GB/T 40128-2021 Химический анализ поверхности. Атомно-силовая микроскопия. Метод определения толщины двумерных слоистых нанолистов дисульфида молибдена.
GB/T 40110-2021 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
GB/T 29732-2021 Химический анализ поверхности. Оже-электронные спектрометры среднего разрешения. Калибровка энергетических шкал для элементного анализа.
GB/T 41073-2021 Химический анализ поверхности. Электронная спектроскопия. Минимальные требования к отчетности для подбора пиков в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии.
GB/T 40129-2021 Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Калибровка шкалы масс для времяпролетного масс-спектрометра вторичных ионов.

Professional Standard - Military and Civilian Products, химия поверхности

WJ 2607-2003 Общие технические условия на химическую обработку поверхности и электрохимическое оксидирование пленок изделий ординирования

German Institute for Standardization, химия поверхности

DIN ISO 16242:2020-05 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в электронной оже-спектроскопии (AES) (ISO 16242:2011); Текст на английском языке
DIN ISO 14707:2018 Химический анализ поверхности. Опто-эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование (ISO 14707:2015)
DIN ISO 14707:2023-05 Химический анализ поверхности. Опто-эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование (ISO 14707:2021)
DIN ISO 15472:2020-05 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал (ISO 15472:2010)
DIN ISO 14707:2023 Химический анализ поверхности. Опто-эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование (ISO 14707:2021)
DIN ISO 15472:2020 Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал (ISO 15472:2010); Текст на английском языке
DIN ISO 18115-1:2017 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии (ISO 18115-1:2013).
DIN ISO 16242:2020 Химический анализ поверхности. Регистрация и отчетность данных в электронной оже-спектроскопии (AES) (ISO 16242:2011); Текст на английском языке
DIN ISO 11505:2018-02 Химический анализ поверхности. Общие процедуры количественного профилирования состава по глубине методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда (ISO 11505:2012)
DIN ISO 16129:2020-11 Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методики оценки повседневной работы рентгеновского фотоэлектронного спектрометра (ISO 16129:2018); Текст на английском языке
DIN ISO 16962:2018 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда (ISO 16962:2017)

IT-UNI, химия поверхности

UNI 5861-1966

未注明发布机构, химия поверхности

BS ISO 14975:2000(2012) Химический анализ поверхности. Форматы информации
BS ISO 18117:2009(2015) Химический анализ поверхности. Обращение с образцами перед анализом.
ISO 14976:1998/Cor 1:1999 Формат передачи данных химического анализа поверхности Техническое исправление 1
BS ISO 22048:2004(2005) Химический анализ поверхности. Информационный формат для статической вторично-ионной масс-спектрометрии.
JIS K 0182:2023 Химический анализ поверхности. Сканирующая зондовая микроскопия. Определение констант нормальной пружины кантилевера.
BS ISO 17974:2002(2010) Химический анализ поверхности. Электронные оже-спектрометры высокого разрешения. Калибровка энергетических шкал для анализа элементного и химического состояния.
BS ISO 18516:2006(2010) Химический анализ поверхности. Электронная оже-спектроскопия и рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Определение латерального разрешения.
BS ISO 21270:2004(2010) Химический анализ поверхности. Рентгеновские фотоэлектронные и электронные оже-спектрометры. Линейность шкалы интенсивности.
BS ISO 20341:2003(2010) Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Метод оценки параметров разрешения по глубине с использованием нескольких эталонных материалов дельта-слоя.