BS ISO 14706-2014
表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
Surface chemical analysis. Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
BS ISO 14706-2014 发布历史
BS ISO 14706-2014由英国标准学会 GB-BSI 发布于 2014-07-31，并于 2014-07-31 实施。
BS ISO 14706-2014 在中国标准分类中归属于: H17 半金属及半导体材料分析方法，在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析。
BS ISO 14706-2014 发布之时，引用了标准
- ISO 14644-1 洁净室和相关控制环境.第1部分:颗粒物浓度的空气洁净度分级*， 2015-12-01 更新
- ISO 5725-2-1994 测试方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分:确定标准测试方法重复性和可再现性的基本方法
* 在 BS ISO 14706-2014 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。
BS ISO 14706-2014的历代版本如下：
- 2001年05月15日 BS ISO 14706-2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- 2001年05月15日 BS ISO 14706-2001
- 2014年07月31日 BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- 标准号
- BS ISO 14706-2014
- 发布日期
- 2014年07月31日
- 实施日期
- 2014年07月31日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- H17
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 发布单位
- GB-BSI
- 引用标准
- ISO 14644-1 ISO 5725-2-1994
- 被代替标准
- BS ISO 14706-2000