Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

Für die Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen gibt es insgesamt 41 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen die folgenden Kategorien: Wortschatz, analytische Chemie, Feuer bekämpfen, Prüfung von Metallmaterialien, Schweißen, Hartlöten und Niedertemperaturschweißen, Elektromagnetische Verträglichkeit (EMV), Audio-, Video- und audiovisuelle Technik.

International Organization for Standardization (ISO), Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

ISO/CD 23699 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreuungselektronenbeugung – Vokabular
ISO 23749:2022 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Quantitative Bestimmung von Austenit in Stahl
ISO 24173:2009 Mikrostrahlanalyse – Richtlinien für die Orientierungsmessung mittels Elektronenrückstreubeugung
ISO/DIS 24173:2023 Mikrostrahlanalyse – Richtlinien für die Orientierungsmessung mittels Elektronenrückstreubeugung
ISO 23703:2022 Mikrostrahlanalyse – Richtlinien für die Fehlorientierungsanalyse zur Beurteilung mechanischer Schäden an austenitischem Edelstahl durch Elektronenrückstreubeugung (EBSD)
ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie-Sputtertiefe S
ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

GB/T 19501-2004 Allgemeiner Leitfaden für die Analyse der Elektronenrückstreubeugung
GB/T 19501-2013 Mikrostrahlanalyse. Allgemeiner Leitfaden für die Analyse der Elektronenrückstreubeugung
GB/T 36165-2018 Bestimmung der durchschnittlichen Korngröße von Metall. Methode der Elektronenrückstreubeugung (EBSD).
GB/T 30703-2014 Mikrostrahlanalyse. Richtlinien für die Orientierungsmessung mittels Elektronenrückstreubeugung
GB/T 38532-2020 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Messung der durchschnittlichen Korngröße

Shanghai Provincial Standard of the People's Republic of China, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

DB31/T 1156-2019 Elektronenrückstreu-Beugungsmethode zur technischen Identifizierung elektrischer Brandschmelzspuren

工业和信息化部, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

YB/T 4677-2018 Bestimmung der Textur mit der Methode der Stahlelektronenrückstreuung (EBSD).

Association Francaise de Normalisation, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

NF ISO 24173:2009 Mikrostrahlanalyse – Richtlinien für die Orientierungsmessung durch Rückstreuelektronenbeugung
NF X21-014:2012 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Messung der durchschnittlichen Korngröße.
NF X21-011*NF ISO 24173:2009 Mikrostrahlanalyse – Richtlinien für die Orientierungsmessung mittels Elektronenrückstreubeugung

German Institute for Standardization, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

DIN ISO 13067:2021-08 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Messung der durchschnittlichen Korngröße (ISO 13067:2020)
DIN ISO 24173:2013-04 Mikrostrahlanalyse – Richtlinien für die Orientierungsmessung mittels Elektronenrückstreubeugung (ISO 24713:2009)
DIN ISO 13067:2021 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Messung der durchschnittlichen Korngröße (ISO 13067:2020)
DIN ISO 24173:2013 Mikrostrahlanalyse – Richtlinien für die Orientierungsmessung mittels Elektronenrückstreubeugung (ISO 24713:2009)

British Standards Institution (BSI), Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

BS ISO 13067:2011 Mikrostrahlanalyse. Elektronenrückstreubeugung. Messung der durchschnittlichen Korngröße
BS ISO 13067:2020 Mikrostrahlanalyse. Elektronenrückstreubeugung. Messung der durchschnittlichen Korngröße
BS ISO 23749:2022 Mikrostrahlanalyse. Elektronenrückstreubeugung. Quantitative Bestimmung von Austenit in Stahl
19/30365236 DC BS ISO 13067. Mikrostrahlanalyse. Elektronenrückstreubeugung. Messung der durchschnittlichen Korngröße
21/30398224 DC BS ISO 23749. Mikrostrahlanalyse. Elektronenrückstreubeugung. Quantitative Bestimmung von Austenit in Stahl
23/30435799 DC BS ISO 24173. Mikrostrahlanalyse. Richtlinien für die Orientierungsmessung mittels Elektronenrückstreubeugung
BS ISO 23703:2022 Mikrostrahlanalyse. Richtlinien für die Fehlorientierungsanalyse zur Beurteilung mechanischer Schäden an austenitischem Edelstahl durch Elektronenrückstreubeugung (EBSD)
21/30395106 DC BS ISO 23703. Mikrostrahlanalyse. Leitfaden für die Fehlorientierungsanalyse zur Beurteilung der mechanischen Schädigung von austenitischem Edelstahl durch Elektronenrückstreubeugung (EBSD)
BS ISO 17109:2015 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen
BS ISO 17109:2022 Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputter-Dept-Profiling unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen dünnen…
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1. Chemische Oberflächenanalyse. Tiefenprofilierung. Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, der Auger-Elektronenspektroskopie und der Sekundärionen-Massenspektrometrie. Sputtertiefenprofilierung mithilfe von Einzel- und…

未注明发布机构, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

DIN ISO 13067 E:2021-01 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Messung der durchschnittlichen Korngröße

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

GB/T 41076-2021 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Quantitative Bestimmung von Austenit in Stahl
GB/T 41064-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Tiefenprofilierung – Methode zur Bestimmung der Sputterrate in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie, Auger-Elektronenspektroskopie und Sekundärionen-Massenspektrometrie zur Sputtertiefenprofilierung unter Verwendung von ein- und mehrschichtigen Dünnfilmen

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

GB/T 34172-2017 Mikrostrahlanalyse – Elektronenrückstreubeugung – Phasenanalysemethode von Metall und Legierung

RU-GOST R, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

GOST R ISO 13067-2016 Staatliches System zur Gewährleistung der Einheitlichkeit der Messungen. Mikrostrahlanalyse. Elektronenrückstreubeugung. Messung der durchschnittlichen Korngröße
GOST R 50842-1995 Elektromagnetische Verträglichkeit radioelektronischer Geräte. Funkübertragungsgeräte für volkswirtschaftliche Anwendungen. Grenzwerte für Störemissionen. Mess- und Überwachungsmethoden

KR-KS, Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

KS C ISO 5828-2016 Widerstandsschweißgeräte – Sekundäre Verbindungskabel mit Anschlüssen, die an wassergekühlte Kabelschuhe angeschlossen sind – Abmessungen und Eigenschaften

American Society for Testing and Materials (ASTM), Sekundärelektronen und Rückstreuelektronen

ASTM E2627-13 Standardpraxis zur Bestimmung der durchschnittlichen Korngröße mithilfe der Elektronenrückstreubeugung (EBSD) in vollständig rekristallisierten polykristallinen Materialien
ASTM E2627-13(2019) Standardpraxis zur Bestimmung der durchschnittlichen Korngröße mithilfe der Elektronenrückstreubeugung (EBSD) in vollständig rekristallisierten polykristallinen Materialien