ZH
RU
EN
ES

キャリア密度の測定方法

キャリア密度の測定方法は全部で 58 項標準に関連している。

キャリア密度の測定方法 国際標準分類において、これらの分類：建材、金属材料試験、半導体材料、連続処理装置、電子および通信機器用の電気機械部品、電磁両立性 (EMC)、放射線測定、原子力工学、分析化学、電気、磁気、電気および磁気測定、導体材料。

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), キャリア密度の測定方法

KS F 2234-2004(2014) ポリスチレンが木毛を強化する仕組みセメントボードの密度と表面品質の測定
KS M ISO 283-1:2011 布地コンベヤベルトの厚さ方向の引張試験パート 1: 破断点伸びと引張強度伸びが荷重測定によってどのように定義されるか
KS M ISO 283-1:2007 布地コンベヤベルト - 厚さ方向の引張試験 - パート 1: 破断伸びと引張強度伸びは荷重測定によってどのように定義されるか
KS C IEC 60512-5-2:2003 電子機器用コネクタテストと測定パート 5-2: 電流容量テストテスト 5b: 電流温度降下
KS C IEC 60512-5-2:2014 電子機器用コネクタの試験・測定パート5-2：通電容量試験試験5b 電流温度降下
KS C IEC 60512-5-2-2003(2008) 電子機器用コネクタの試験および測定パート 5-2: 電流容量試験試験 5b: 電流温度ディレーティング
KS C IEC 61788-17:2020 超電導 - パート 17: 電子物性の測定 - 大面積超電導膜における局所臨界電流密度とその分布

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, キャリア密度の測定方法

GB/T 8757-2006 ガリウムヒ素中のキャリア濃度のプラズマ共鳴測定法
GB/T 37543-2019(英文版) 直流送電線および変電所の全電界強度およびイオン電流密度の測定方法
GB/T 11068-2006 ガリウムヒ素エピタキシャル層キャリア濃度容量電圧測定法
GB 11068-1989 ガリウムヒ素エピタキシャル層キャリア濃度容量電圧測定法

American Society for Testing and Materials (ASTM), キャリア密度の測定方法

ASTM F1392-00 水銀プローブを用いた静電容量電圧測定によるシリコンウェーハの正味キャリア密度分布を決定するための標準的な試験方法
ASTM F1393-92(1997) フライス盤フィードバックマスターツール水銀プローブ付き測定機を使用したシリコン内の正味キャリア密度測定の試験方法
ASTM E265-98 硫黄-32の放射能を利用した高速中性子束密度と反応速度の測定方法
ASTM E265-98(2002) 硫黄-32の放射能を利用した高速中性子束密度と反応速度の測定方法
ASTM E265-07e1 硫黄-32の放射能を利用した高速中性子束密度と反応速度の測定方法
ASTM E265-07 放射性硫黄 32 を使用して高速中性子束密度と反応速度を測定するための標準的な試験方法
ASTM F398-92(1997) プラズモン共鳴の最小波数または波長を測定することにより、半導体内の多数キャリア濃度を決定するための標準的な試験方法
ASTM F391-96 定常状態の表面光起電力測定による外部半導体の少数キャリア拡散長の決定のための標準試験方法

RO-ASRO, キャリア密度の測定方法

STAS 11071/21-1990 測定器のレベル。熱中性子流体密度測定装置の階層ブロック図

KR-KS, キャリア密度の測定方法

KS M ISO 283-1-2007 布地コンベヤベルト - 厚さ方向の引張試験 - パート 1: 破断伸びと引張強度伸びは荷重測定によってどのように定義されるか
KS C IEC 61788-17-2020 超電導 - パート 17: 電子物性の測定 - 大面積超電導膜における局所臨界電流密度とその分布

British Standards Institution (BSI), キャリア密度の測定方法

BS EN 60512-5-2:2002 電子機器用コネクタ試験と測定通電容量試験試験5b 電流温度降下
PD IEC TS 62607-5-3:2020 ナノ加工における重要な制御特性薄膜有機/ナノエレクトロニクスデバイスのキャリア濃度の測定
BS EN IEC 61788-17:2021 大面積超電導膜の局所臨界電流密度と分布の超電導電子物性測定
BS ISO 16531:2013 表面化学分析、深さプロファイリング、光電子分光法 (XPS) および原子発光分光法 (AES) の深さプロファイリングにおけるイオンビーム校正および電流または電流密度の関連測定方法。
BS ISO 16531:2020 表面化学分析深さプロファイリング AES および XPS における深さプロファイリングのためのイオンビームアライメント法および関連する電流または電流密度の測定法
19/30399949 DC BS ISO 16531 表面化学分析における深さプロファイリングのためのイオンビームのアライメント方法、および AES および XPS における深さプロファイリングのための電流または電流密度の関連測定方法
19/30391554 DC BS EN 61788-17。超電導。パート 17: 電子特性の測定。大面積超電導膜の局所臨界電流密度と分布

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, キャリア密度の測定方法

GB/T 37543-2019 DC 送電線と変換所の合成電界強度とイオン電流密度を測定する方法
GB/T 39843-2021 電子特性により、局所的な臨界電流密度と大面積超電導膜の分布を測定します

AENOR, キャリア密度の測定方法

UNE-EN 60512-5-2:2002 電子機器コネクタの試験および測定パート 5-2: 通電容量試験試験 5b: 電流温度ディレーティング

RU-GOST R, キャリア密度の測定方法

GOST 8.105-1980 ГСИ. 核物理施設における中性子束密度と流量を測定する機器のための国家特別基準機器および全ソ連校正システム
GOST 8.033-1984 ГСИ 放射性核子の活動および粒子流に関する国家計量システムの国家校正システム図および放射性核種源のα、β 粒子流および光子流の密度測定器
GOST 8.033-1996 ГСИ. 放射性核子の活動および粒子流に関する国家計量システムの国家校正システム図および放射性核源のα、β 粒子流および光子流の密度測定器

International Electrotechnical Commission (IEC), キャリア密度の測定方法

IEC 60512-5-2:2002 電子機器用コネクタ試験と測定パート 5-2: 通電容量試験試験 5b: 電流温度降下
IEC TS 62607-5-3:2020 ナノ加工の臨界制御特性パート 5-3: 薄膜有機/ナノ電子デバイスにおける電荷キャリア濃度の測定
IEC 61788-17:2021 超電導その17：大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の電子物性測定
IEC 61788-17:2021 RLV 超電導その17：大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の電子物性測定

Association Francaise de Normalisation, キャリア密度の測定方法

NF C93-400-5-2*NF EN 60512-5-2:2002 電子機器用コネクタ試験および測定パート 5-2: 電流容量試験試験 5b: 電流温度降下値
NF C31-888-17*NF EN IEC 61788-17:2021 超電導その17：大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の電子物性測定
NF EN IEC 61788-17:2021 超電導 - パート 17: 電子物性の測定 - 大表面超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), キャリア密度の測定方法

JIS C 5402-5-2:2005 電子機器用コネクタ試験と測定パート 5-2: 通電容量試験試験 5b: 電流温度降下

Professional Standard - Electron, キャリア密度の測定方法

SJ 3244.1-1989 ガリウムヒ素およびインジウムリン材料のホール移動度およびキャリア濃度の測定方法

Lithuanian Standards Office , キャリア密度の測定方法

LST EN 60512-5-2-2003 電子機器コネクタの試験および測定パート 5-2: 電流容量試験試験 5b: 電流温度ディレーティング (IEC 60512-5-2:2002)

German Institute for Standardization, キャリア密度の測定方法

DIN EN 60512-5-2:2003-01 電子機器へのコネクタ - テストと測定 - パート 5-2: 電流容量テスト、テスト 5b: 電流温度ディレーティング (IEC 60512-5-2:2002)
DIN EN 60512-5-2:2003 電子機器用コネクタ試験および測定パート 5-2: 通電容量試験試験 5b: 電流温度降下 (IEC 60512-5-2:2002)、ドイツ語版 EN 60512-5-2:2002

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, キャリア密度の測定方法

GB/T 34326-2017 表面化学分析深さプロファイリング AES および XPS 深さプロファイリングイオンビームアライメント法およびそのビームまたはビーム密度測定法

Danish Standards Foundation, キャリア密度の測定方法

DS/EN 60512-5-2:2002 電子機器コネクタの試験と測定パート 5-2: 電流容量試験試験 5b: 電流温度ディレーティング
DS/EN IEC 61788-17:2021 超電導パート17: 大面積超電導膜における局所臨界電流密度とその分布の電子物性測定
DS/EN 61788-17:2013 超電導その17：大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の電子物性測定

International Organization for Standardization (ISO), キャリア密度の測定方法

ISO 16531:2013 表面化学分析深さプロファイリング原子発光分光法 (AES) および光電子分光法 (XPS) における深さプロファイリングのためのイオンビーム補正および電流または電流密度の関連測定方法。
ISO 16531:2020 表面化学分析 - 深さ分析 - イオンビームアライメント法および関連する電流または電流密度測定は、AES および XPS での深さ分析に使用されます。

European Committee for Electrotechnical Standardization（CENELEC）, キャリア密度の測定方法

EN 60512-5-2:2002 電子機器用コネクタ試験と測定パート 5-2: 通電容量試験試験 5b: 電流温度降下 IEC 60512-5-2:2002
EN IEC 61788-17:2021 超電導その17：大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の電子物性測定
EN 61788-17:2013 超電導その17：大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の電子物性測定

ES-UNE, キャリア密度の測定方法

UNE-EN IEC 61788-17:2021 超電導その17: 電子物性大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の測定
UNE-EN 61788-17:2013 超電導その17: 電子物性大面積超電導薄膜における局所臨界電流密度とその分布の測定