ZH

EN

JP

ES

RU

DE

X선 에너지 분광계 분석 방법

모두 172항목의 X선 에너지 분광계 분석 방법와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 X선 에너지 분광계 분석 방법와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 분석 화학, 금속 광석, 길이 및 각도 측정, 광학 및 광학 측정, 원자력공학, 방사선 측정, 광학 장비, 비파괴 검사, 반도체 소재, 의료 과학 및 의료 기기 통합, 석유제품 종합, 내화물, 비철금속, 화학 제품, 합금철, 쓰레기, 연료, 종이와 판지, 물리학, 화학.


German Institute for Standardization, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • DIN ISO 16129:2020-11 표면 화학 분석 X선 광전자 분광기 X선 광전자 분광기의 일상적인 성능 평가 절차
  • DIN ISO 16129:2020 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 - X선 광전자 분광계의 일상적인 성능을 평가하기 위한 절차(ISO 16129-2018), 영어 텍스트
  • DIN ISO 15472:2020-05 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광계 - 에너지 스케일 교정(ISO 15472:2010)
  • DIN ISO 15472:2020 표면 화학 분석을 위한 X선 광전자 분광계의 에너지 표준 교정(ISO 15472:2010), 영어 텍스트
  • DIN ISO 15632:2022-09 에너지 분산형 X선 분광계 사양 및 검사를 위해 선택된 기기 성능 매개변수의 마이크로빔 분석
  • DIN ISO 15632:2015 마이크로빔 분석 반도체 검출기를 갖춘 에너지 발산 X선 분광계에 대한 기기 사양(ISO 15632-2012)
  • DIN 51577-4:1994 광유 및 유사 제품의 탄화수소 검사 염소 및 브롬 함량 측정 저가형 기기의 에너지 산란 X선 분광계를 사용한 분석
  • DIN 51577-4:2023-07 미네랄 오일 탄화수소 및 유사 제품 테스트. 염소 및 브롬 함량 측정. 저가형 장비를 사용한 에너지 분산형 X선 분광법
  • DIN 51577-4:1994-02 광유 탄화수소 및 유사 제품 테스트, 염소 및 브롬 함량 측정, 저가 장비를 사용한 에너지 분산형 X선 분광학
  • DIN 51577-4:2023-11 광유 및 유사 제품의 탄화수소 테스트 염소 및 브롬 함량 측정 4부: 저가형 장비를 사용한 에너지 분산형 X선 분광법

British Standards Institution (BSI), X선 에너지 분광계 분석 방법

  • BS ISO 16129:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광기 X선 광전자 분광기의 일상적인 성능 평가 절차
  • BS ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
  • BS ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
  • BS ISO 10810:2019 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
  • BS ISO 10810:2010 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 분석 가이드
  • BS ISO 15470:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • BS ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • BS ISO 15632:2012 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석을 위한 에너지 분산형 X선 분광계 검사를 위해 선택된 장비의 사양 및 성능 매개변수
  • BS ISO 15632:2021 전자 탐침 미세 분석용 에너지 분산형 X선 분광계 검사를 위한 마이크로빔 분석 사양 및 선택된 기기 성능 매개변수
  • BS ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
  • BS ISO 21270:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 및 오제 전자 분광계 강도 척도의 선형성
  • BS ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항
  • BS ISO 14701:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 산화규소 두께 측정
  • BS ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 실리카 두께 측정
  • BS ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
  • 19/30394914 DC BS ISO 15632 마이크로빔 분석 사양 및 전자 탐침 현미경 또는 전자 탐침 마이크로 분석기(EPMA)용 에너지 분산형 X선 분광기 검사를 위한 선택된 기기 성능 매개변수
  • BS ISO 17109:2022 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 및 다층 필름의 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법...
  • 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 표면 화학 분석의 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 이온 질량 분석법을 사용하는 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도 결정 방법...
  • BS ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
  • BS 1902-9.2:1987 내화 재료의 시험 방법 파트 9.2: 기기 화학 분석 방법 섹션 2: X선 형광 분광법을 이용한 규산 내화 재료 분석
  • BS ISO 19668:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 추정 및 균질 재료의 원소 검출 한계 보고
  • BS ISO 19318:2021 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법은 전하 제어 및 전하 보정 방법을 보고합니다.
  • BS ISO 18118:2015 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용한 균질 재료의 정량 분석 가이드
  • 23/30461294 DC BS ISO 18118 표면 화학 분석 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용하는 Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법을 사용하여 균질 물질의 정량 분석을 위한 가이드
  • BS ISO 20903:2019 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고 시 필요한 정보
  • DD ISO/TS 10798:2011 나노기술은 단일벽 탄소 나노튜브를 특성화하기 위해 주사 전자 현미경과 에너지 분산형 X선 분광학을 사용합니다.
  • 20/30423741 DC BS ISO 19318 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법은 전하 제어 및 전하 보정 방법을 보고합니다.
  • BS ISO 20903:2011 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고에 필요한 정보
  • BS DD ISO/TS 10798:2011 나노기술 주사전자현미경과 에너지분산형 X선 분광법을 이용한 단일벽 탄소나노튜브의 특성 규명.

International Organization for Standardization (ISO), X선 에너지 분광계 분석 방법

  • ISO 16129:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 - X선 광전자 분광계의 일상적인 성능을 평가하는 방법
  • ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
  • ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 척도의 선형성
  • ISO 15472:2010 표면 화학 분석.X선 광전자 분광계.에너지 스케일 교정
  • ISO 15472:2001 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 스케일 교정
  • ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 기기 성능 매개변수 설명
  • ISO 10810:2019 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 분석 가이드
  • ISO 10810:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
  • ISO 15470:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • ISO 13424:2013 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법, 박막 분석 결과 보고
  • ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
  • ISO/CD TR 18392:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 배경 측정 절차
  • ISO 15632:2021 마이크로빔 분석 - 반도체 검출기를 갖춘 에너지 분산 X선 분광계에 대한 기기 사양
  • ISO 15632:2012 마이크로빔 분석 - 반도체 검출기를 갖춘 에너지 분산 X선 분광계에 대한 기기 사양
  • ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항
  • ISO 14701:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법 - 산화규소 두께 측정
  • ISO/CD 5861 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 석영 결정 단색 Al Ka XPS 장비 강도 교정 방법
  • ISO/DIS 5861:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 수정 결정 단색 Al Kα XPS 기기 강도 교정 방법
  • ISO 15632:2002 마이크로빔 분석 - 반도체 검출기를 갖춘 에너지 분산형 X선 분광계에 대한 기기 사양
  • ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 이산화규소 두께 측정
  • ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
  • ISO/TR 19319:2003 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역에 대한 분석가 육안 검사
  • ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
  • ISO/TS 10798:2011 나노기술 주사전자현미경과 X선 에너지 분광학을 이용한 단일암 탄소나노튜브의 특성 규명.
  • ISO/DIS 18118:2023 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용한 균질 재료의 정량 분석 가이드
  • ISO/FDIS 18118:2023 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 실험적으로 결정된 상대 감도 인자를 사용한 균질 재료의 정량 분석 가이드
  • ISO 17109:2022 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
  • ISO 19668:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 균질 물질의 원소 검출 한계 추정 및 보고
  • ISO 20903:2019 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 결과 보고 시 필요한 피크 강도 및 정보를 결정하는 데 사용되는 방법
  • ISO 20903:2011 표면 화학 분석 오제 전자 에너지 분광법 및 X선 광전자 분광법 결과 보고에 필요한 피크 강도 결정 방법 및 정보

工业和信息化部/国家能源局, X선 에너지 분광계 분석 방법

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), X선 에너지 분광계 분석 방법

  • JIS M 8205:2000 철광석 X선 형광 분광계 분석
  • JIS K 0162:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • JIS K 0152:2014 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 분석 강도 척도의 반복성 및 일관성
  • JIS K 0167:2011 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 균질 물질의 정량 분석을 위한 상대 감도 인자의 실험실 결정 사용에 대한 지침

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), X선 에너지 분광계 분석 방법

  • KS D ISO 21270:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광계 및 오제 전자 분광계강도 규모의 선형성
  • KS D ISO 21270-2005(2020) 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모의 선형성
  • KS D ISO 15470-2005(2020) 표면 화학 분석을 위한 X선 광전자 분광계의 일부 성능 매개변수에 대한 설명
  • KS D ISO 15472:2003 표면 화학 분석.X선 광전 분광계.에너지 규모 교정
  • KS D ISO 19319-2005(2020) 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 분석기 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역 결정
  • KS D ISO 15470:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • KS D ISO 15632:2018 마이크로빔 분석 - 전자 탐침 미세 분석용 에너지 분산형 X선 분광계에 대해 선택된 기기 성능 매개변수의 사양 및 검사
  • KS D ISO 15632:2012 마이크로빔 분석 - 반도체 검출기를 갖춘 에너지 분산형 X선 분광계에 대한 기기 사양
  • KS D ISO 19319:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역에 대한 분석가 육안 검사
  • KS D ISO 19318-2005(2020) 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 전하 제어 및 전하 보정 방법 보고서
  • KS D ISO 18118-2005(2020) 표면 화학 분석에서 균질 물질의 정량 분석을 위해 실험적으로 결정된 상대 민감도 인자 사용에 대한 지침 오거 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • GB/T 21006-2007 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
  • GB/T 22571-2008 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 척도 교정
  • GB/T 19500-2004 X선 광전자 분광학 분석 방법의 일반 원리
  • GB/T 30704-2014 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
  • GB/T 20726-2015 마이크로빔 분석 전자탐침 미세분석 X선 에너지 분광기의 주요 성능변수 및 검증방법
  • GB/T 28892-2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수의 표현
  • GB/T 17362-2008 금제품의 주사전자현미경 및 X선 에너지분광법 분석방법
  • GB/T 17362-1998 금 장신구의 주사전자현미경 및 X선 에너지 분광법 분석방법
  • GB/T 17359-1998 전자탐침과 주사전자현미경을 이용한 X선 에너지 분광법의 정량분석 일반원리
  • GB/T 28632-2012 표면 화학 분석오거 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법측면 분해능 결정
  • GB/T 18873-2002 생물학적 얇은 시료의 투과전자현미경-X선 분광학 정량분석의 일반원리
  • GB/T 18873-2008 생물학적 얇은 시료의 투과전자현미경-X선 분광학 정량분석의 일반원리
  • GB/Z 32490-2016 표면 화학 분석을 위해 X선 광전자 분광법을 사용한 배경 측정 절차
  • GB/T 17507-2008 생물학적 얇은 표준의 투과전자현미경 및 X선 에너지 분광학 분석을 위한 일반 기술 조건
  • GB/T 17507-1998 생물학적 얇은 표준시료의 전자현미경 및 X선 에너지 분광학 분석을 위한 일반 기술 조건
  • GB/T 29556-2013 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X-선 광전자 분광법 분석기로 감지할 수 있는 측면 분해능, 분석 영역 및 샘플 영역 결정
  • GB/T 28633-2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 강도 척도의 반복성과 일관성
  • GB/T 25185-2010 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 전하 제어 및 전하 보정 방법 보고서
  • GB/T 2679.11-2008 종이 및 판지용 무기 충진제 및 무기 코팅의 정성 분석 전자 현미경/X선 분광학
  • GB/T 2679.11-1993 종이 및 판지의 무기 충진제 및 무기 코팅의 정성 분석 전자 현미경/X선 에너지 분광학
  • GB/T 28893-2012 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고에 필요한 정보
  • GB/T 30702-2014 표면 화학 분석 균질 물질의 정량 분석에서 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법에 대해 실험적으로 결정된 상대 민감도 인자를 사용하는 방법에 대한 가이드
  • GB/T 6609.30-2009 알루미나의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 파트 30: X선 형광 분광법을 통한 미량 원소 함량 측정

未注明发布机构, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • BS ISO 21270:2004(2010) 표면 화학 분석X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계강도 규모 선형성
  • BS ISO 18516:2006(2010) 표면 화학 분석 Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 측면 분해능 결정

Association Francaise de Normalisation, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • NF X21-055:2006 표면 화학 분석.X선 광전자 분광계.에너지 스케일 교정
  • NF X21-071:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
  • NF X21-008:2012 마이크로빔 분석 반도체 검출기를 갖춘 에너지 분산 X선 분광계의 기기 사양
  • NF X21-073*NF ISO 16243:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
  • NF ISO 16243:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)의 데이터 로깅 및 보고
  • NF EN ISO 13196:2015 토양 품질 – 휴대용 또는 휴대용 에너지 분산형 X선 형광 분광계를 사용하여 토양에서 선택한 요소를 신속하게 분석합니다.
  • FD T16-203:2011 나노기술은 단일벽 탄소 나노튜브를 특성화하기 위해 주사 전자 현미경과 에너지 분산형 X선 분광학을 사용합니다.
  • NF X21-058:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정에 사용되는 방법 및 결과 보고에 필요한 정보

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • GB/T 22571-2017 표면 화학 분석을 위한 X선 광전자 분광기의 에너지 규모 교정
  • GB/T 33502-2017 표면 화학 분석을 위한 XPS(X선 광전자 분광학) 데이터 기록 및 보고에 대한 사양 요구 사항

KR-KS, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • KS D ISO 15472-2003(2023) 표면화학분석-X선 광전자분광기-에너지 규모 교정
  • KS D ISO 15632-2018 마이크로빔 분석 - 전자 탐침 미세 분석용 에너지 분산형 X선 분광계에 대해 선택된 기기 성능 매개변수의 사양 및 검사
  • KS D ISO 15632-2023 마이크로빔 분석 주사전자현미경(SEM) 또는 전자탐침 마이크로분석기(EPMA)와 함께 사용하기 위한 에너지 분산형 X선 분광계(EDS)에 대해 선택된 기기 성능 매개변수의 사양 및 검사

Professional Standard - Nuclear Industry, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • EJ/T 684-2016 휴대용 에너지 분산형 X선 형광 분석기

IN-BIS, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • IS 12803-1989 X선 형광분광기를 이용한 수경시멘트 분석방법

Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), X선 에너지 분광계 분석 방법

  • IEEE 759-1984 반도체 X선 에너지 스펙트럼 분석기의 테스트 절차

National Metrological Technical Specifications of the People's Republic of China, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • JJF 1133-2005 X선 형광 분광법 금 함량 분석기의 교정 사양

Standard Association of Australia (SAA), X선 에너지 분광계 분석 방법

  • AS ISO 15470:2006 표면 화학 분석. X선 광전자 분광학. 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • AS ISO 15472:2006 표면 화학 분석. X선 광전자 분광학. 에너지 규모의 교정
  • AS ISO 19319:2006 표면 화학 분석. Augur 전자 분광학 및 X선 광전자 분광학. 분석가의 측면 해상도 육안 검사, 분석 영역 및 샘플 영역
  • AS ISO 18118:2006 표면 화학 분석. 오거 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법. 균질 물질의 정량 분석에서 실험적으로 결정된 상대 감도 계수의 사용에 대한 안내

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • GB/T 36401-2018 표면화학분석 X선 광전자분광법 박막분석 결과 보고
  • GB/T 41073-2021 표면 화학 분석을 위한 기본 요구 사항 전자 에너지 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅 보고서
  • GB/T 41064-2021 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 단층 및 다층 필름을 사용하는 X선 광전자 분광법, 오제 전자 분광법 및 2차 이온 질량 분석법에서 깊이 프로파일링 스퍼터링 속도를 결정하는 방법
  • GB/T 6609.30-2022 알루미나의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 30부: 미량 원소 함량 측정 파장 분산형 X선 형광 분광법

American Society for Testing and Materials (ASTM), X선 에너지 분광계 분석 방법

  • ASTM E996-94(1999) Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 데이터 보고를 위한 표준 관행
  • ASTM E1588-10e1 주사전자현미경/에너지 산란 X선 분광법을 통한 탄 잔류물 분석을 위한 표준 가이드
  • ASTM F1375-92(2012) 가스 분배 시스템 구성요소의 금속 표면 상태에 대한 에너지 분산형 X선 분광계(EDX) 분석을 위한 표준 테스트 방법
  • ASTM E1588-16 주사전자현미경/에너지 산란 X선 분광법을 이용한 촬영 잔류물 분석을 위한 표준 가이드
  • ASTM C1255-93(1999) 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 토양 내 우라늄 및 토륨 분석의 표준 시험 방법
  • ASTM C1255-18 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 토양 내 우라늄 및 토륨 분석의 표준 시험 방법
  • ASTM C1255-93(2005) 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 토양 내 우라늄 및 토륨 분석의 표준 시험 방법
  • ASTM C1255-11 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 토양 내 우라늄 및 토륨 분석의 표준 시험 방법
  • ASTM E1588-16a 주사전자현미경/에너지 분산형 X선 분광법을 통한 샷 잔류물 분석의 표준 관행
  • ASTM E1588-17 주사전자현미경/에너지 분산형 X선 분광법을 통한 샷 잔류물 분석의 표준 관행
  • ASTM F1375-92(2005) 가스 분배 시스템 부품의 금속 표면 상태에 대한 에너지 분산형 X선 분광 분석 시험 방법
  • ASTM E1588-07 주사전자현미경/에너지 분산형 X선 분광법을 이용한 사격 잔류물 분석을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1588-07e1 주사전자현미경/에너지 분산형 X선 분광법을 이용한 사격 잔류물 분석을 위한 표준 가이드
  • ASTM D5839-96(2001) 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 유해 폐유의 미량 원소 분석을 위한 표준 테스트 방법
  • ASTM D5839-96(2006) 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 유해 폐유의 미량 원소 분석을 위한 표준 테스트 방법
  • ASTM D5839-15(2023) 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 유해 폐기물 연료의 미량 원소 분석을 위한 표준 테스트 방법
  • ASTM E1588-20 주사전자현미경/에너지 분산형 X선 분광법을 이용한 총기 잔류물 분석의 표준 실습
  • ASTM D5839-15 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 유해 폐유의 미량 원소 분석을 위한 표준 테스트 방법
  • ASTM F1375-92(1999) 가스 분배 시스템 구성 요소의 금속 표면 상태에 대한 에너지 분산형 X선 분광법(EDX)에 대한 표준 테스트 방법
  • ASTM F1375-92(2020) 가스 분배 시스템 구성 요소의 금속 표면 상태에 대한 에너지 분산형 X선 분광법(EDX)에 대한 표준 테스트 방법
  • ASTM D5839-96 에너지 분산형 X선 형광 분광법을 이용한 유해 폐기물 연료의 미량원소 분석을 위한 표준 시험 방법
  • ASTM E3309-21 주사전자현미경/에너지 분산형 X선 분광법(SEM/EDS)을 통한 법의학 프라이밍 총상 잔류물(pGSR) 분석 보고를 위한 표준 가이드

Group Standards of the People's Republic of China, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • T/CSTM 01199-2024 다층 금속박막층 구조 측정 및 분석 방법 X선 광전자 분광법

Fujian Provincial Standard of the People's Republic of China, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • DB35/T 110-2000 페인트 증거물 검출을 위한 전자탐침 및 주사전자현미경 X선 에너지 분광분석 방법

Professional Standard - Machinery, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • JB/T 11602.3-2013 비파괴 검사 장비의 X선관 전압 측정 및 평가 3부: 에너지 스펙트럼 테스트

Professional Standard - Non-ferrous Metal, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • YS/T 273.14-2008 빙정석의 화학적 분석 및 물리적 특성을 위한 방법 14부: X선 형광 분광법을 통한 원소 함량 측정
  • YS/T 581.10-2006 불화알루미늄의 화학적 분석 및 물리적 특성 방법 10부: X선 형광 분광법을 통한 황 함량 측정
  • YS/T 273.11-2006 빙정석의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 11부: X선 형광 분광법을 통한 황 함량 측정
  • YS/T 581.16-2008 불화알루미늄의 화학적 분석 및 물리적 특성 방법 16부 X선 형광 분광법을 통한 원소 함량 측정
  • YS/T 581.18-2012 불화알루미늄의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 18부: X선 형광 분광법(정제 프레싱) 방법에 의한 원소 함량 측정
  • YS/T 273.15-2012 빙정석의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 15부: X선 형광 분광법(정제 압착) 방법에 의한 원소 함량 측정
  • YS/T 820.19-2012 라테라이트 니켈 광석의 화학적 분석 방법 파트 19: 알루미늄, 크롬, 철, 마그네슘, 망간, 니켈 및 실리콘의 양 측정 에너지 분산형 X선 형광 분광법

工业和信息化部, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • YS/T 581.15-2012 불화알루미늄의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 15부: X선 형광 분광법(정제 압착) 방법에 의한 원소 함량 측정

Danish Standards Foundation, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • DS/ISO/TS 10798:2011 나노기술은 단일벽 탄소 나노튜브를 특성화하기 위해 주사 전자 현미경과 에너지 분산형 X선 분광학을 사용합니다.

RU-GOST R, X선 에너지 분광계 분석 방법

  • GOST R ISO 16243-2016 측정 일관성을 보장하기 위한 국가 시스템 표면 화학 분석 XPS(X선 광전자 분광학) 데이터 기록 및 보고




©2007-2024 저작권 소유