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Spitze der Siliziumwaferoberfläche

Für die Spitze der Siliziumwaferoberfläche gibt es insgesamt 252 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Spitze der Siliziumwaferoberfläche die folgenden Kategorien: Halbleitermaterial, Prüfung von Metallmaterialien, Isolierflüssigkeit, Nichteisenmetalle, analytische Chemie, Stahlprodukte, Piezoelektrische und dielektrische Geräte zur Frequenzsteuerung und -auswahl, Wortschatz, Längen- und Winkelmessungen, Audio-, Video- und audiovisuelle Technik, Solartechnik, Gebäudeschutz, fotografische Fähigkeiten, Produktionsprozesse in der Gummi- und Kunststoffindustrie, Materialien für die Luft- und Raumfahrtfertigung, Einrichtungen im Gebäude, medizinische Ausrüstung, Elektronische Geräte, Integrierte Schaltkreise, Mikroelektronik, Elektrische und elektronische Prüfung, Gegenstände und Materialien, die mit Lebensmitteln in Berührung kommen, Elektrische Geräte und Systeme für die Luft- und Raumfahrt, Chemikalien, Paraffin, bituminöse Materialien und andere Erdölprodukte, Straßenarbeiten, Widerstand, Zutaten für die Farbe, Glas, Essen umfassend, Küchenausstattung, Brückenbau, Filter, Isoliermaterialien, Straßenfahrzeuggerät, Anorganische Chemie, Partikelgrößenanalyse, Screening, Film, magnetische Materialien, Plastik, Desinfektion und Sterilisation, Rohstoffe für Gummi und Kunststoffe, Oberflächenbehandlung und Beschichtung, Farbauftragsprozess, Bordausrüstung und Instrumente.


中国有色金属工业总公司, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • YS/T 25-1992 Verfahren zur Reinigung der Silizium-Polierwaferoberfläche
  • YS/T 27-1992 Methoden zum Messen und Zählen von Partikelkontaminationen auf Waferoberflächen

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • GB/T 29505-2013 Prüfverfahren zur Messung der Oberflächenrauheit auf planaren Oberflächen von Siliziumwafern
  • GB/T 6621-2009 Prüfmethoden für die Oberflächenebenheit von Siliziumscheiben
  • GB/T 19921-2005 Testmethode für Partikel auf Siliziumwaferoberflächen
  • GB/T 42789-2023 Prüfverfahren für den Oberflächenglanz von Siliziumwafern
  • GB/T 6621-1995 Prüfverfahren für die Oberflächenebenheit von Silizium-polierten Scheiben
  • GB/T 6624-1995 Standardmethode zur Messung der Oberflächenqualität polierter Siliziumscheiben durch visuelle Inspektion
  • GB/T 6624-2009 Standardmethode zur Messung der Oberflächenqualität polierter Siliziumscheiben durch visuelle Inspektion
  • GB/T 17169-1997 Prüfverfahren für die Oberflächenqualität von polierten Siliziumscheiben und Epitaxiescheiben durch optische Reflexion
  • GB/T 42902-2023 Laserstreuverfahren zum Testen von Oberflächendefekten von Siliziumkarbid-Epitaxiewafern
  • GB/T 25188-2010 Dickenmessungen für ultradünne Siliziumoxidschichten auf Siliziumwafern. Röntgenphotoelektronenspektroskopie
  • GB/T 24577-2009 Testmethoden zur Analyse organischer Verunreinigungen auf Siliziumwasseroberflächen mittels Thermodesorptions-Gaschromatographie
  • GB/T 30860-2014 Prüfmethoden für Oberflächenrauheit und Sägespuren von Siliziumwafern für Solarzellen
  • GB/T 24578-2015 Testmethode zur Messung der Oberflächenmetallkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie
  • GB/T 24578-2009 Testmethode zur Messung der Oberflächenmetallkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie
  • GB/T 24575-2009 Testmethode zur Messung von Oberflächennatrium, Aluminium, Kalium und Eisen auf Silizium- und Epi-Substraten mittels Sekundärionen-Massenspektrometrie
  • GB/T 2523-2008 Messverfahren für die Oberflächenrauheit und Spitzenzahl bei kaltgewalztem Metallblech (Band)
  • GB/T 43313-2023 Prüfung der Oberflächenqualität und Mikroröhrendichte von polierten Siliziumkarbid-Wafern mithilfe der konfokalen Differentialinterferenzmethode
  • GB/T 30701-2014 Chemische Oberflächenanalyse. Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • GB 10810.5-2012 Unbearbeitete fertige Brillengläser. Teil 5: Anforderungen an die Abriebfestigkeit von Brillenglasoberflächen
  • GB/T 2523-2022 Methode zur Messung der Oberflächenrauheit, Spitzenzahl und Welligkeit von kaltgewalzten Metallblechen und -bändern
  • GB/T 13388-2009 Verfahren zur Messung der kristallographischen Orientierung von Flächen auf einkristallinen Siliziumscheiben und Wafern mittels Röntgentechnik
  • GB/T 13388-1992 Verfahren zur Messung der kristallographischen Orientierung von Flächen auf Einkristall-Silikonscheiben und -Wafern durch Röntgentechniken
  • GB/T 31225-2014 Testverfahren für die Dicke von Siliziumoxid auf Si-Substrat mittels Ellipsometer
  • GB/T 13387-2009 Testverfahren zur Messung flacher Wafer aus Silizium und anderen elektronischen Materialien
  • GB/T 30118-2013 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW). Spezifikationen und Messmethoden
  • GB/T 32495-2016 Chemische Oberflächenanalyse.Sekundärionen-Massenspektrometrie.Methode zur Tiefenprofilierung von Arsen in Silizium
  • GB/T 24579-2009 Testmethoden zur Messung der Oberflächenmetallkontamination von polykristallinem Silizium durch Säureextraktion-Atomabsorptionsspektroskopie
  • GB/T 23656-2009 Bestandteile der Kautschukmischung. Kieselsäure, ausgefällt, hydratisiert. Bestimmung der CTAB-Oberfläche

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • GB/T 19921-2018 Prüfmethode für Partikel auf polierten Siliziumwaferoberflächen
  • GB/T 40279-2021 Testverfahren für die Dicke von Filmen auf der Siliziumwaferoberfläche – optische Reflexionsmethode
  • GB/T 40110-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • GB/T 39145-2020 Testmethode für den Gehalt an Oberflächenmetallelementen auf Siliziumwafern – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • GB/T 41073-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Elektronenspektroskopie – Mindestberichtsanforderungen für die Peakanpassung in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie
  • GB/T 40109-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium

Group Standards of the People's Republic of China, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • T/IAWBS 002-2017 Testverfahren für Oberflächendefekte von Siliziumkarbid-Epitaxiewafern
  • T/FSI 049-2020 Prüfverfahren für den Silanolgehalt auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure
  • T/CASAS 032-2023 Testmethode für den Gehalt an Metallelementen auf der Oberfläche von Siliziumkarbid-Wafern – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
  • T/ZZB 0497-2018 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten
  • T/IAWBS 010-2019 Detektionsmethode zur Messung der Oberfläche Detektionsmethode zur Messung der Oberflächenqualität und Mikroröhrendichte von polierten monokristallinen Siliziumkarbid-Wafern – Laserstreumethode
  • T/CECA 69-2022 Einkristalline Dünnschichtsubstrate für SAW-Geräte
  • T/IAWBS 012-2019 Testmethode für Oberflächenqualität und Mikroröhrendichte von Siliziumkarbid-Einkristall-Polierwafern – konfokale und differenzielle Interferometrie-Optik
  • T/CPUIA 0013-2022 Silikontensid aus starrem Polyurethanschaum für Kühlschränke
  • T/CPUIA 0011-2022 Silikontensid aus flexiblem Polyurethanschaum für Möbel
  • T/JSJTQX 32-2023 Wasserbasiertes, leicht zu reinigendes Fluorsilan-Schutzmittel, das auf den Brückenbeton aufgetragen wird
  • T/CESA 1186-2022 Testmethode für den Silanolgehalt auf der Oberfläche von Siliciumdioxidpulver für elektronische Verpackungen – Säure-Base-Titration
  • T/CPUIA 0012-2022 Silikontensid aus hochelastischem Polyurethanschaum für die Automobilindustrie
  • T/SPUIA 0003-2021 Niedrigzyklisches Silikontensid für flexiblen Polyurethanschaum
  • T/ZZB 3068-2023 Chlordioxid-Desinfektionstabletten zur Objektoberflächen- und Luftdesinfektion

Professional Standard - Electron, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • SJ/T 11504-2015 Prüfverfahren zur Messung der Oberflächenqualität von poliertem monokristallinem Siliziumkarbid
  • SJ/T 11503-2015 Testmethoden zur Messung der Oberflächenrauheit von polierten monokristallinen Siliziumkarbid-Wafern
  • SJ/T 10627-1995 Testmethoden zur Sauerstoffausfällungscharakterisierung von Siliziumwafern durch Messung der interstitiellen Sauerstoffreduktion

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • KS D 0261-2012(2017) Visuelle Inspektion für Siliziumwafer mit spiegelnder Oberfläche
  • KS D ISO 14706-2003(2018) Chemische Oberflächenanalyse – Messung von Oberflächenelementverunreinigungen auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektrometer
  • KS D 0261-2012 Visuelle Inspektion für Siliziumwafer mit spiegelnder Oberfläche
  • KS D 0261-2012(2022) Visuelle Inspektion für Siliziumwafer mit spiegelnder Oberfläche
  • KS D ISO 14706:2003 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • KS C IEC 62276:2019 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • KS R 1101-2005(2020) Prüfverfahren zur Korrosion an Materialschnittstellen für Scheibenbremsbeläge von Automobilen
  • KS C IEC 62276:2007 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • KS M ISO 8215-2007(2018) Oberflächenaktive Mittel – Waschpulver – Bestimmung des Gesamtkieselsäuregehalts – Gravimetrische Methode
  • KS R ISO 7629-2015(2020) Straßenfahrzeuge – Bremsbeläge – Scheibenbremsbeläge – Bewertung von Oberflächen- und Materialfehlern nach der Prüfung

Society of Automotive Engineers (SAE), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

AGMA - American Gear Manufacturers Association, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • P149.03-1983 Vorhersage der Spitzentemperatur auf der Oberfläche thermoplastischer Zahnradzähne

KR-KS, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • KS D ISO 14706-2003(2023) Chemische Oberflächenanalyse – Messung von Oberflächenelementverunreinigungen auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektrometer
  • KS C IEC 62276-2019 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • KS A ISO 8400-2003(2023) Kinematographie – Position der Emulsionsoberfläche von 16-mm-Filmkopien – Identifizierung
  • KS M ISO 8215-2007(2023) Oberflächenaktive Mittel – Waschpulver – Bestimmung des Gesamtkieselsäuregehalts – Gravimetrische Methode

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • JIS H 0614:1996 Visuelle Inspektion für Siliziumwafer mit spiegelnder Oberfläche
  • JIS K 0148:2005 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • JIS K 0160:2009 Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • JIS K 0164:2023 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium
  • JIS T 7336:2011 Augenoptik – Unbearbeitete Brillengläser – Mindestanforderungen an Brillenglasoberflächen, die als abriebfest gelten
  • JIS C 6760:2014 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW). Spezifikationen und Messmethoden

American Society for Testing and Materials (ASTM), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • ASTM F1810-97 Standardtestverfahren zur Zählung bevorzugt geätzter oder dekorierter Oberflächenfehler in Siliziumwafern
  • ASTM F523-93(1997) Standardpraxis für die visuelle Inspektion polierter Siliziumwaferoberflächen ohne Hilfsmittel
  • ASTM F672-88(1995)e1 Standardtestmethode zur Messung von Widerstandsprofilen senkrecht zur Oberfläche eines Siliziumwafers unter Verwendung einer Ausbreitungswiderstandssonde
  • ASTM F154-00 Standardhandbuch zur Identifizierung von Strukturen und Verunreinigungen auf spiegelnden Siliziumoberflächen
  • ASTM F950-98 Standardtestmethode zur Messung der Tiefe der Kristallschädigung einer mechanisch bearbeiteten Siliziumscheibenoberfläche durch Winkelpolieren und Defektätzen
  • ASTM D6845-02(2008) Standardtestmethode für Siliciumdioxid, gefälltes, hydratisiertes x2014;CTAB (Cetyltrimethylammoniumbromid)-Oberfläche
  • ASTM E1337-90 Standardtestverfahren zur Bestimmung des Längsspitzenbremskoeffizienten von gepflasterten Oberflächen unter Verwendung eines Standardreferenztestreifens
  • ASTM F1239-94 Standardtestmethoden zur Sauerstoffpräzipitationscharakterisierung von Siliziumwafern durch Messung der interstitiellen Sauerstoffreduktion
  • ASTM D1993-03(2013)e1 Standardtestmethode für die Oberfläche von gefälltem Siliciumdioxid durch Multipoint-BET-Stickstoffadsorption
  • ASTM D5604-96(2006) Standardtestmethoden für die Oberfläche von gefälltem Siliciumdioxid durch Einzelpunkt-BET-Stickstoffadsorption
  • ASTM D5604-96(2001) Standardtestmethoden für gefälltes Siliciumdioxid8212; Oberfläche durch Einzelpunkt-BET-Stickstoffadsorption
  • ASTM D5604-96 Standardtestmethoden für gefälltes Siliciumdioxid8212; Oberfläche durch Einzelpunkt-BET-Stickstoffadsorption
  • ASTM D5604-96(2017) Standardtestmethoden für gefälltes Siliciumdioxid8212; Oberfläche durch Einzelpunkt-BET-Stickstoffadsorption
  • ASTM E1337-90(2018) Standardtestverfahren zur Bestimmung des Längsspitzenbremskoeffizienten von gepflasterten Oberflächen unter Verwendung eines Standard-Referenztestreifens
  • ASTM A717/A717M-12 Standardtestverfahren für den Oberflächenisolationswiderstand von Einzelstreifenproben
  • ASTM D1993-03(2008) Standardtestmethode für die Oberfläche von gefälltem Siliciumdioxid durch Multipoint-BET-Stickstoffadsorption
  • ASTM F847-94(1999) Standardtestmethoden zur Messung der kristallographischen Ausrichtung von Flächen auf einkristallinen Siliziumwafern durch Röntgentechniken
  • ASTM E2685-15(2019) Standardspezifikation für Stahlklingen, die beim Oberflächenschnitttest für Photovoltaikmodule verwendet werden
  • ASTM D1044-13 Standardtestverfahren für die Beständigkeit transparenter Kunststoffe gegenüber Oberflächenabrieb
  • ASTM D1044-08e1 Standardtestverfahren für die Beständigkeit transparenter Kunststoffe gegenüber Oberflächenabrieb
  • ASTM D1044-05 Standardtestverfahren für die Beständigkeit transparenter Kunststoffe gegenüber Oberflächenabrieb
  • ASTM D1993-03 Standardtestmethode für die Oberfläche von gefälltem Siliciumdioxid durch Multipoint-BET-Stickstoffadsorption
  • ASTM D1993-03(2013) Standardtestmethode für die Oberfläche von gefälltem Siliciumdioxid durch Multipoint-BET-Stickstoffadsorption

Defense Logistics Agency, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

International Organization for Standardization (ISO), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • ISO 14706:2000 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • ISO 14706:2014 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • ISO 4287:1997/Amd 1:2009 Geometrische Produktspezifikation (GPS) – Oberflächentextur: Profilmethode – Begriffe, Definitionen und Oberflächentexturparameter; Änderung 1: Spitzenzahl
  • ISO 17331:2004 Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • ISO 17331:2004/Amd 1:2010 Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF); Änderung 1
  • ISO 17560:2014 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium
  • ISO 19830:2015 Chemische Oberflächenanalyse – Elektronenspektroskopie – Mindestberichtsanforderungen für die Peakanpassung in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie
  • ISO 23157:2021 Bestimmung des Silanolgruppengehalts auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure – Reaktionsgaschromatographische Methode
  • ISO 8215:1985 Oberflächenaktive Mittel; Waschpulver; Bestimmung des Gesamtkieselsäuregehalts; gravimetrische Methode
  • ISO 14701:2018 Chemische Oberflächenanalyse – Röntgenphotoelektronenspektroskopie – Messung der Siliziumoxiddicke

IN-BIS, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • IS 9954-1981 Bilder zur Oberflächenbehandlung von Stahloberflächen

British Standards Institution (BSI), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • BS ISO 14706:2000 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • BS ISO 14706:2014 Chemische Oberflächenanalyse. Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • BS ISO 14706:2001 Chemische Oberflächenanalyse. Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • BS ISO 17331:2004+A1:2010 Chemische Oberflächenanalyse. Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
  • BS EN 1388-2:1996 Materialien und Gegenstände, die mit Lebensmitteln in Berührung kommen – Silikatoberflächen – Bestimmung der Freisetzung von Blei und Cadmium aus Silikatoberflächen außer Keramik
  • BS EN 50513:2009 Solarwafer – Datenblatt und Produktinformationen für kristalline Siliziumwafer für die Solarzellenherstellung
  • BS EN ISO 23157:2022 Bestimmung des Silanolgruppengehalts auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure. Reaktionsgaschromatographische Methode
  • BS ISO 19830:2015 Chemische Oberflächenanalyse. Elektronenspektroskopien. Mindestanforderungen an die Berichterstattung für die Peakanpassung in der Röntgenphotoelektronenspektroskopie
  • BS ISO 23157:2021 Bestimmung des Silanolgruppengehalts auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure. Reaktionsgaschromatographische Methode
  • 21/30429402 DC BS ISO 23157. Bestimmung des Silanolgruppengehalts auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure. Reaktionsgaschromatographische Methode
  • BS EN 62276:2013 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW). Spezifikationen und Messmethoden
  • BS EN 62276:2005 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • BS EN 62276:2006 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • BS EN 62276:2016 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW). Spezifikationen und Messmethoden
  • BS ISO 14701:2018 Chemische Oberflächenanalyse. Röntgenphotoelektronenspektroskopie. Messung der Siliziumoxiddicke

International Electrotechnical Commission (IEC), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • IEC 62276:2016 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • IEC 62276:2005 Einkristallwafer für die Anwendung in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • IEC 62276:2012 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden

CH-SNV, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

HU-MSZT, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • MSZ 22521-1981 Diamant-Flachschleifscheibe, Sägeblatt-Unterlegscheibe

Danish Standards Foundation, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • DS/EN ISO 4287/A1:2009 Geometrische Produktspezifikationen (GPS) – Oberflächentextur: Profilmethode – Begriffe, Definitionen und Oberflächentexturparameter – Ergänzung 1: Spitzenzahl
  • DS/EN 1388-2:1996 Materialien und Gegenstände in Kontakt mit Lebensmitteln – Silikatoberflächen – Teil 2: Bestimmung der Freisetzung von Blei und Cadmium aus Silikatoberflächen außer Keramik
  • DS/EN 50513:2009 Solarwafer – Datenblatt und Produktinformationen für kristalline Siliziumwafer für die Solarzellenherstellung
  • DS/EN 10342:2005 Magnetische Materialien – Klassifizierung der Oberflächenisolierungen von Elektroblechen, -bändern und -blechen

German Institute for Standardization, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • DIN EN 50513:2009 Solarwafer – Datenblatt und Produktinformationen für kristalline Siliziumwafer für die Solarzellenherstellung; Deutsche Fassung EN 50513:2009
  • DIN EN ISO 23157:2022-12 Bestimmung des Silanolgruppengehalts auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure – Reaktionsgaschromatographisches Verfahren (ISO 23157:2021); Deutsche Fassung EN ISO 23157:2022
  • DIN EN 1388-2:1995-11 Materialien und Gegenstände, die mit Lebensmitteln in Kontakt kommen – Silikatoberflächen – Teil 2: Bestimmung der Freisetzung von Blei und Cadmium aus Silikatoberflächen außer Keramikwaren; Deutsche Fassung EN 1388-2:1995
  • DIN EN ISO 23157:2022 Bestimmung des Silanolgruppengehalts auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure – Reaktionsgaschromatographisches Verfahren (ISO 23157:2021)
  • DIN EN 1388-2:1995 Materialien und Gegenstände, die mit Lebensmitteln in Kontakt kommen – Silikatoberflächen – Teil 2: Bestimmung der Freisetzung von Blei und Cadmium aus Silikatoberflächen außer Keramikwaren; Deutsche Fassung EN 1388-2:1995

Professional Standard - Building Materials, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

Professional Standard - Chemical Industry, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • HG/T 3008-1999 Bestimmung des Oberflächenwiderstandes von Folienträgern

The Society for Protective Coatings (SSPC), Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • SSPC PA 17-2012 Verfahren zur Bestimmung der Konformität mit den Anforderungen an Stahlprofil/Oberflächenrauheit/Peak-Anzahl
  • SSPC GUIDE 7-2015 LEITFADEN ZUR ENTSORGUNG VON BLEIKONTAMINIERTEN OBERFLÄCHENVORBEREITUNGSSCHMUTZ

SSPC - The Society for Protective Coatings, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • PA 17-2012 Verfahren zur Bestimmung der Konformität mit den Anforderungen an Stahlprofil/Oberflächenrauheit/Peak-Anzahl
  • GUIDE 7-1995 Leitfaden für die Entsorgung bleikontaminierter Oberflächenvorbereitungsrückstände
  • GUIDE 7-2004 Leitfaden zur Entsorgung von mit Blei kontaminierten Oberflächenvorbereitungsrückständen
  • GUIDE 7-2015 LEITFADEN ZUR ENTSORGUNG VON BLEIKONTAMINIERTEN OBERFLÄCHENVORBEREITUNGSSCHMUTZ

Association Francaise de Normalisation, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • NF EN 50513:2009 Solarsiliziumwafer – Datenblatt und Produktinformationen zu kristallinen Siliziumwafern für die Solarzellenherstellung
  • NF EN 62276:2018 Einkristallwafer für Anwendungen mit Oberflächenwellengeräten (OAS) – Spezifikationen und Messmethoden
  • NF E05-015/A1:2009 Geometrische Produktspezifikationen (GPS) – Oberflächentextur: Profilmethode – Begriffe, Definitionen und Oberflächentexturparameter – Änderung 1: Spitzenanzahl.
  • NF D25-501-2*NF EN 1388-2:1996 Materialien und Gegenstände, die mit Lebensmitteln in Kontakt kommen. Silikatoberflächen. Teil 2: Bestimmung der Freisetzung von Blei und Cadmium aus anderen Silikatoberflächen als Keramikwaren.
  • NF EN 1388-2:1996 Materialien und Gegenstände, die mit Lebensmitteln in Berührung kommen – Silikatoberflächen – Teil 2: Bestimmung der Emission von Blei und Cadmium von Silikatoberflächen außer Keramikgegenständen.
  • NF T73-706*NF ISO 8215:1986 Oberflächenaktive Mittel. Waschpulver. Bestimmung des Gesamtkieselsäuregehalts. Gravimetrische Methode.
  • NF EN ISO 23157:2022 Bestimmung des Gehalts an Silanolgruppen auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure – Methode durch gaschromatographische Analyse von Reaktionsgasen
  • NF C93-616:2006 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden.
  • NF T73-052:1969 OBERFLÄCHENAKTIVE MITTEL. WISSENSCHAFTLICHE KLASSIFIKATION. REFERENZKLASSIFIZIERUNG AUF LOCHKARTEN.
  • NF C93-616:2013 Einkristallwafer für Anwendungen in Oberflächenwellengeräten (SAW) – Spezifikationen und Messmethoden
  • NF T35-503-4*NF EN ISO 8503-4:2012 Vorbereitung von Stahlsubstraten vor dem Auftragen von Farben und verwandten Produkten – Oberflächenrauheitseigenschaften von gestrahlten Stahlsubstraten – Teil 4: Verfahren zur Kalibrierung von ISO-Oberflächenprofilkomparatoren und zur Bestimmung von s
  • NF T35-503-4:1995 Vorbereitung von Stahluntergründen vor dem Auftragen von Farben und verwandten Produkten. Oberflächenrauheitseigenschaften von gestrahlten Stahlsubstraten. Teil 4: Verfahren zur Kalibrierung von ISO-Oberflächenprofilkomparatoren und zur Bestimmung der Oberfläche

Taiwan Provincial Standard of the People's Republic of China, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • CNS 10793-1984 Rauheitsvergleichsproben
  • CNS 8477-1982 Prüfmethode für den Oberflächenisolationswiderstand von Einzelstreifenproben
  • CNS 7631-1981 Prüfmethode für den Oberflächenisolationswiderstand von Mehrstreifenproben

RO-ASRO, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • STAS 12796-1990 Korrosionsschutz. VORBEREITUNG DER OBERFLÄCHE VON STAHLTEILEN ZUM LACKIEREN
  • STAS SR ISO 8215:1995 Oberflächenaktive Mittel – Waschpulver – Bestimmung des Gesamtkieselsäuregehalts – Gravimetrische Methode

Lithuanian Standards Office , Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • LST EN ISO 4287:2007/A1:2009 Geometrische Produktspezifikationen (GPS) – Oberflächentextur: Profilmethode – Begriffe, Definitionen und Oberflächentexturparameter – Änderung 1: Peak-Count-Nummer (ISO 4287:1997/Amd 1:2009)
  • LST EN 1388-2-2000 Materialien und Gegenstände in Kontakt mit Lebensmitteln – Silikatoberflächen – Teil 2: Bestimmung der Freisetzung von Blei und Cadmium aus Silikatoberflächen außer Keramik
  • LST EN 50513-2009 Solarwafer – Datenblatt und Produktinformationen für kristalline Siliziumwafer für die Solarzellenherstellung
  • LST EN 10342-2005 Magnetische Materialien – Klassifizierung der Oberflächenisolierungen von Elektroblechen, -bändern und -blechen

AENOR, Spitze der Siliziumwaferoberfläche

  • UNE-EN ISO 4287:1999/A1:2010 Geometrische Produktspezifikationen (GPS) – Oberflächentextur: Profilmethode – Begriffe, Definitionen und Oberflächentexturparameter – Änderung 1: Peak-Count-Nummer (ISO 4287:1997/Amd 1:2009)
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