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전반사 X선 형광

모두 10항목의 전반사 X선 형광와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 전반사 X선 형광와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 분석 화학.

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 전반사 X선 형광

• GB/T 40110-2021 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염에 대한 TXRF(전반사 X선 형광 분광법) 측정

British Standards Institution (BSI), 전반사 X선 형광

• BS PD ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에 전반사 X선 형광 분광법 활용
• BS ISO 14706:2000 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
• BS ISO 14706:2014 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
• BS ISO 14706:2001 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
• BS ISO 17331:2004+A1:2010 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 표준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법(TXRF)을 통한 결정

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 전반사 X선 형광

• KS D ISO 14706:2003 표면 화학 분석 전반사 X선 형광 분광법을 이용한 실리콘 웨이퍼 표면의 주요 오염물질 측정

International Organization for Standardization (ISO), 전반사 X선 형광

• ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에 전반사 X선 형광 분광법 활용
• ISO 17331:2004 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 기준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법을 통한 결정

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 전반사 X선 형광

• GB/T 30701-2014 표면 화학 분석: 실리콘 웨이퍼 작업 표준 샘플의 표면 원소에 대한 화학 포집 방법 및 전반사 X선 형광 분광법(TXRF) 측정

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