Spektrum von Siliziumwafern

Für die Spektrum von Siliziumwafern gibt es insgesamt 129 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Spektrum von Siliziumwafern die folgenden Kategorien: analytische Chemie, Prüfung von Metallmaterialien, Halbleitermaterial, Ferrolegierung, Optische Ausrüstung, Nichteisenmetalle, Pulvermetallurgie, Ledertechnologie, Allgemeine Methoden der Lebensmittelprüfung und -analyse, Isolierflüssigkeit, nichtmetallische Mineralien, Integrierte Schaltkreise, Mikroelektronik, Solartechnik, Terminologie (Grundsätze und Koordination), schwarzes Metall, Keramik, Umweltschutz, Wasserqualität, Chemikalien, Leitermaterial.

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Spektrum von Siliziumwafern

GB/T 40110-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
GB/T 12964-2018 Polierte Wafer aus monokristallinem Silizium
GB/T 19921-2018 Prüfmethode für Partikel auf polierten Siliziumwaferoberflächen
GB/T 40312-2021 Ferrophosphor – Bestimmung des Phosphor-, Silizium-, Mangan- und Titangehalts – Wellenlängendispersives Röntgenfluoreszenzspektrometrieverfahren (Fused-Cast-Bead-Verfahren)
GB/T 5687.13-2021 Ferrochrom – Bestimmung von Chrom-, Silizium-, Mangan-, Titan-, Vanadium- und Eisengehalten – Wellenlängendispersive Röntgenfluoreszenzspektrometrie (Fused-Cast-Bead-Methode)
GB/T 40279-2021 Testverfahren für die Dicke von Filmen auf der Siliziumwaferoberfläche – optische Reflexionsmethode
GB/T 4333.8-2022 Ferrosilicium – Bestimmung des Calciumgehalts – Flammen-Atomabsorptionsspektrometrie

British Standards Institution (BSI), Spektrum von Siliziumwafern

BS ISO 14706:2000 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
BS ISO 14706:2014 Chemische Oberflächenanalyse. Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
BS ISO 14706:2001 Chemische Oberflächenanalyse. Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
BS 7012-6:1998 Lichtmikroskope. Spezifikation für Spektralfilter

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Spektrum von Siliziumwafern

KS D ISO 14706:2003 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
KS E 3076-2017 Methoden zur röntgenfluoreszenzspektrometrischen Analyse von Quarzstein und Quarzsand
KS E 3076-2022 Methoden zur röntgenfluoreszenzspektrometrischen Analyse von Quarzstein und Quarzsand
KS M ISO 5400-2012(2022) Leder – Bestimmung des Gesamtsiliziumgehalts – spektrometrische Methode mit reduziertem Molybdosilikat
KS M ISO 5400:2012 Leder – Bestimmung des Gesamtsiliziumgehalts – spektrometrische Methode mit reduziertem Molybdosilikat
KS D 1683-2004 Methode zur emissionsspektrochemischen Analyse von Silberbarren
KS D ISO 4139-2002(2017) Metallische und andere anorganische Beschichtungen – Messung der Schichtdicke – Fizeau-Mehrstrahlinterferometrie-Methode
KS D 0078-2008(2018) Testverfahren zur Bestimmung der Verunreinigungskonzentrationen in Siliziumkristallen mittels Photolumineszenzspektroskopie

American Society for Testing and Materials (ASTM), Spektrum von Siliziumwafern

ASTM F1619-95(2000) Standardtestmethode zur Messung des interstitiellen Sauerstoffgehalts von Siliziumwafern durch Infrarotabsorptionsspektroskopie mit p-polarisiertem Strahlungseinfall im Brewster-Winkel
ASTM F1727-97 Standardpraxis zur Erkennung von durch Oxidation verursachten Defekten in polierten Siliziumwafern

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Spektrum von Siliziumwafern

GB/T 24578-2015 Testmethode zur Messung der Oberflächenmetallkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie
GB/T 24578-2009 Testmethode zur Messung der Oberflächenmetallkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie
GB/T 12964-2003 Polierte Wafer aus monokristallinem Silizium
GB/T 29506-2013 300 mm polierte monokristalline Siliziumwafer
GB/T 25188-2010 Dickenmessungen für ultradünne Siliziumoxidschichten auf Siliziumwafern. Röntgenphotoelektronenspektroskopie
GB/T 26601-2011 Mikroskope.Spektralfilter
GB/T 30656-2014 Polierte monokristalline Siliziumkarbid-Wafer
GB/T 30656-2023 Einkristall-polierter Siliziumkarbid-Wafer
GB/T 26065-2010 Spezifikation für polierte Test-Siliziumwafer
GB/T 17169-1997 Prüfverfahren für die Oberflächenqualität von polierten Siliziumscheiben und Epitaxiescheiben durch optische Reflexion
GB/T 19921-2005 Testmethode für Partikel auf Siliziumwaferoberflächen
GB/T 29055-2019(英文版) Multikristalline Siliziumwafer für Photovoltaik-Solarzellen
GB/T 42789-2023 Prüfverfahren für den Oberflächenglanz von Siliziumwafern
GB/T 14140.1-1993 Siliziumscheiben und -wafer – Durchmessermessung – Optische Projektionsmethode
GB/T 6621-1995 Prüfverfahren für die Oberflächenebenheit von Silizium-polierten Scheiben
GB/T 5686.9-2023 Bestimmung der Gehalte an Ferromangan, Mangan-Silizium-Legierungen, Ferromangannitrid und metallischem Mangan-Mangan, Silizium, Phosphor und Eisen mittels wellenlängendispersiver Röntgenfluoreszenzspektrometrie (Gussglasplattenverfahren)
GB/T 6624-1995 Standardmethode zur Messung der Oberflächenqualität polierter Siliziumscheiben durch visuelle Inspektion
GB/T 6624-2009 Standardmethode zur Messung der Oberflächenqualität polierter Siliziumscheiben durch visuelle Inspektion
GB/T 4058-1995 Testverfahren zur Erkennung von durch Oxidation verursachten Defekten in polierten Siliziumwafern
GB/T 4058-2009 Testverfahren zur Erkennung von durch Oxidation verursachten Defekten in polierten Siliziumwafern
GB/T 32281-2015 Testmethode zur Messung von Sauerstoff, Kohlenstoff, Bor und Phosphor in Solarsiliziumwafern und -rohstoffen. Sekundärionen-Massenspektrometrie
GB/T 24577-2009 Testmethoden zur Analyse organischer Verunreinigungen auf Siliziumwasseroberflächen mittels Thermodesorptions-Gaschromatographie
GB/T 31351-2014 Zerstörungsfreie Prüfmethode für die Mikroröhrendichte von polierten monokristallinen Siliziumkarbid-Wafern
GB/T 42902-2023 Laserstreuverfahren zum Testen von Oberflächendefekten von Siliziumkarbid-Epitaxiewafern

Professional Standard - Non-ferrous Metal, Spektrum von Siliziumwafern

YS/T 985-2014 Polierte wiedergewonnene Siliziumwafer

Professional Standard - Machinery, Spektrum von Siliziumwafern

JB/T 5590-1991 Optischer Filter eines optischen Spektruminstruments
JB/T 9334-1999 Mikroskope. Die grundlegende Spezifikation für Spektralfilter

Group Standards of the People's Republic of China, Spektrum von Siliziumwafern

T/CPIA 0037-2022 Spezifikationen für photovoltaische kristalline Wafer
T/ZPP 016-2022 Das Debonden und Einfügen von Photovoltaik-Siliziumwafern umfasst integrierte technische Anforderungen
T/IAWBS 005-2018 6 Zoll polierte monokristalline Siliziumkarbid-Wafer
T/IAWBS 005-2024 6 bis 8 Zoll große, polierte monokristalline Siliziumkarbid-Wafer
T/CQCAA 0005-2020 Bestimmung von Quecksilber in Siliziumdioxid – Atomfluoreszenzspektrometrie
T/ZZB 0648-2018 200 mm starke, mit Phosphor dotierte, einkristalline, polierte Czochralski-Siliziumwafer
T/NXCL 017-2022 300 mm starke, mit Phosphor dotierte, einkristalline, polierte Czochralski-Siliziumwafer
T/NXCL 016-2022 200 mm stark antimondotierter, einkristalliner, polierter Czochralski-Siliziumwafer
T/CPIA 0038-2022 Galvanisierter Diamantdraht zum Schneiden von Siliziumwafern in der Photovoltaik
T/CPIA 0022-2020 Bewertungsanforderungen für grüne Fabriken in der Photovoltaik-Siliziumwafer-Herstellungsindustrie
T/ICMTIA SM0027-2022 Polierter 300-mm-P-Typ-Silizium-Einkristallwafer für fortschrittliche Speichertechnologie
T/CPIA 0021-2020 Technische Spezifikation zur Green Design-Produktbewertung für photovoltaische Siliziumwafer
T/IAWBS 014-2021 Prüfverfahren für die Versetzungsdichte von polierten Siliziumkarbid-Wafern
T/SQIA 057-2023 Technische Anforderungen für die Bewertung des CO2-Fußabdrucks von Photovoltaikzellen aus kristallinem Silizium
T/CSTM 00061-2018 Nickellegierung – Bestimmung des Siliziumgehalts – Flammenatomabsorptionsspektrometrische Methode

工业和信息化部, Spektrum von Siliziumwafern

YB/T 4780-2019 Bestimmung des Silizium-, Kalzium- und Aluminiumgehalts in Kalzium-Silizium-Legierungen mittels wellenlängendispersiver Röntgenfluoreszenzspektrometrie (Gussglasplattenverfahren)
SJ/T 11629-2016 Online-Methode zur Photolumineszenzanalyse von Siliziumwafern und -zellen für Solarzellen
YB/T 4907-2021 Bestimmung von Ferromangan-, Mangan-Silizium-Legierungen und Metall-Mangan-, Silizium-, Eisen- und Phosphorgehalten mittels wellenlängendispersiver Röntgenfluoreszenzspektrometrie

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Spektrum von Siliziumwafern

GB/T 4333.5-2016 Ferrosilicium – Bestimmung von Silizium-, Mangan-, Aluminium-, Calcium-, Chrom- und Eisengehalten – Wellenlängendispersive Röntgenfluoreszenzspektrometrie (Fused Cast Bead-Methode)
GB/T 33236-2016 Polykristallines Silizium – Bestimmung von Spurenelementen – Glimmentladungs-Massenspektrometrie-Methode

Professional Standard - Electron, Spektrum von Siliziumwafern

SJ/T 11502-2015 Spezifikation für polierte monokristalline Siliziumkarbid-Wafer
SJ/T 11869-2022 Detaillierte Spezifikationen für Siliziumsubstrat-Weißlichtleistungs-Leuchtdiodenchips
SJ/T 11868-2022 Detaillierte Spezifikationen für blaue Power-Leuchtdiodenchips mit Siliziumsubstrat
SJ 3198-1989 Methode zur Bestimmung von Silizium, Eisen, Magnesium und Kupfer im Vakuum einer Silizium-Aluminium-Legierung anhand des Emissionsspektrums
SJ/T 11867-2022 Detaillierte Spezifikationen für Siliziumsubstrat-Blaulicht-Leuchtdiodenchips mit geringem Stromverbrauch
SJ/T 11504-2015 Prüfverfahren zur Messung der Oberflächenqualität von poliertem monokristallinem Siliziumkarbid
SJ/T 11503-2015 Testmethoden zur Messung der Oberflächenrauheit von polierten monokristallinen Siliziumkarbid-Wafern
SJ/Z 3206.5-1989 Behandlungsmethoden für sensibilisierte Platten- und Filmfotografie für die chemische Analyse mittels Spektrum

中国有色金属工业总公司, Spektrum von Siliziumwafern

YS/T 25-1992 Verfahren zur Reinigung der Silizium-Polierwaferoberfläche

Association Francaise de Normalisation, Spektrum von Siliziumwafern

NF A07-520:1971 Analyse von Aluminium-Silizium und Aluminium-Silizium-Kupfer-Legierungen mittels Emissionsspektrographie.
NF T90-007:2001 Wasserqualität – Bestimmung löslicher Silikate – Molekularabsorptionsspektrometrische Methode.
NF T77-152:1987 Basissilikone für den industriellen Einsatz. Bestimmung des Siliziumgehalts (Siliziumgehalt unter 1 Prozent (m/m)). Methode durch Atomabsorptionsspektrometrie.

RU-GOST R, Spektrum von Siliziumwafern

GOST 16412.9-1991 Eisenpulver. Methode der photoelektrischen Spektralanalyse von Silizium, Mangan und Phosphor
GOST 9853.6-1979 Schwammtitan. Spektralmethode zur Bestimmung von Silizium, Eisen und Nickel
GOST 18385.2-1979 Niob. Spektralmethode zur Bestimmung von Silizium, Titan und Eisen
GOST 23687.2-1979 Legierung aus Kupfer-Beryllium. Spektrale Methode zur Bestimmung von Magnesium, Eisen, Aluminium, Silizium, Blei
GOST 851.10-1993 Primäres Magnesium. Spektralmethode zur Bestimmung von Silizium, Eisen, Nickel, Aluminium, Kupfer und Mangan
GOST 851.10-1987 Primäres Magnesium. Spektrale Methode zur Bestimmung des Silizium-, Eisen-, Nickel-, Aluminium-, Kupfer- und Margangehalts

GOSTR, Spektrum von Siliziumwafern

GOST 9853.23-1996 Schwammtitan. Spektralmethode zur Bestimmung von Silizium, Eisen, Nickel

Hebei Provincial Standard of the People's Republic of China, Spektrum von Siliziumwafern

DB13/T 5091-2019 Bestimmung des Ferromangan-, Mangan-Silizium-, Ferromangannitrid- und Metallmangan-Silizium-, Mangan- und Phosphorgehalts Wellenlängendispersive Röntgenfluoreszenzspektrometrie (Gussglasverfahren)

IT-UNI, Spektrum von Siliziumwafern

UNI 7237-1973 Foto. Lichtquelle für lichtempfindliche Belichtung. Simulation der Spektralverteilung des Sonnenlichts
UNI 7238-1973 Foto. Lichtquelle für lichtempfindliche Belichtung. Simulation der spektralen Verteilung der Wolframbeleuchtung
UNI 7239-1973 Foto. Lichtquelle für lichtempfindliche Belichtung. Simulation der Spektralverteilung mit fotografischen Flutlichtern

AENOR, Spektrum von Siliziumwafern

UNE 59027:1988 LEDER. BESTIMMUNG DES GESAMTSILIZIUMGEHALTS. REDUZIERTES MOLYBDOSILICAT-SPEKTROMETRISCHES VERFAHREN
UNE 35056-1:1983 FERROSILIZIUM. BESTIMMUNG DES ALUMINIUMGEHALTS. FLAMMEN-ATOMABSORPTIONSSPEKTROMETRISCHES METHODE

ES-UNE, Spektrum von Siliziumwafern

UNE 59027:1988 ERRATUM LEDER. BESTIMMUNG DES GESAMTSILIZIUMGEHALTS. REDUZIERTES MOLYBDOSILICAT-SPEKTROMETRISCHES VERFAHREN

Professional Standard - Commodity Inspection, Spektrum von Siliziumwafern

SN/T 0770-1999 Bestimmung von Siliziumoxid in Flockengraphit mit mittlerem Kohlenstoffgehalt. Photometrische Methode mit Molybdänblau
SN/T 2489-2010 Bestimmung der Cr-, Mn-, P- und Si-Gehalte in Roheisen – Methode der photoelektrischen Emissionsspektroskopie
SN/T 2749-2010 Bestimmung von Mangan, Silizium, Aluminium, Kalzium und Titan in Seltenerd-Ferrosilizium. Methode der wellendispersiven Röntgenfluoreszenzspektrometrie
SN/T 2950-2011 Bestimmung des Silizium-, Aluminium-, Kalzium-, Eisen-, Phosphor-, Chrom- und Titangehalts in der Export-Seltenerd-Magnesium-Ferrosilizium-Röntgenfluoreszenzspektrometrie
SN/T 3604-2013 Bestimmung von Kupfer, Silizium, Mangan, Zink, Aluminium und Eisen in Zinkkonzentraten. Röntgenfluoreszenzspektrometrie

International Organization for Standardization (ISO), Spektrum von Siliziumwafern

ISO 5400:1984 Leder; Bestimmung des Gesamtsiliziumgehalts; spektrometrische Methode mit reduziertem Molybdosilikat
ISO 9502:1993 Flussspat in metallurgischer Qualität; Bestimmung des Kieselsäuregehalts; Spektrometrische Methode mit reduziertem Molybdosilikat
ISO 5438:1993 Flussspat in Säure- und Keramikqualität; Bestimmung des Kieselsäuregehalts; Spektrometrische Methode mit reduziertem Molybdosilikat
ISO 9502:1989 Flussspat in metallurgischer Qualität – Bestimmung des Siliciumdioxidgehalts – Spektrometrische Methode mit reduziertem Molybdänsilikatgehalt

YU-JUS, Spektrum von Siliziumwafern

JUS H.B8.091-1980 Kryolith, natürlich und künstlich. Bestimmung des Lizenzinhalts. RcduceJ Speetrophotometrisches Molybdosilikat-Verfahren

European Committee for Standardization (CEN), Spektrum von Siliziumwafern

CEN/TR 10354:2011 Chemische Analyse von Eisenwerkstoffen – Analyse von Ferrosilicium – Bestimmung von Si und Al mittels Röntgenfluoreszenzspektrometrie
PD CEN/TR 10354:2011 Chemische Analyse von Eisenwerkstoffen – Analyse von Ferrosilicium – Bestimmung von Si und Al mittels Röntgenfluoreszenzspektrometrie

Defense Logistics Agency, Spektrum von Siliziumwafern

DLA SMD-5962-87729 REV E-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ECL, 8-ZEILEN-MULTIPLEXER, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-87752 REV C-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ECL, PHASENFREQUENZDETEKTOR, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-87792 REV B-2005 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ECL-MULTIPLEXER MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-94622 REV A-2011 MIKROSCHALTUNG, LINEAR, LAMPENTREIBER, FLUORESZIEREND, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-88527 REV B-2001 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ECL, 8-ZEILEN-MULTIPLEXER, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-88560 REV B-2006 MIKROSCHALTUNG, SPEICHER, DIGITAL, ECL, 64-BIT-RAM, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-94622-1994 MIKROSCHALTUNG, LINEAR, LAMPENTREIBER, FLUORESZIEREND, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-87730 REV B-1991 MIKROKREISE, DIGITAL, ECL, 4 WIDE ODER-UND/ODER-UND-INVERT-GATE, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-87751 REV A-2007 MIKROKREIS, DIGITAL, ECL, ZÄHLERSTEUERLOGIK, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-87773 REV B-2007 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ECL, ONE-SHOT-MULTIVIBRATOR, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA SMD-5962-88577 REV C-2001 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ECL, 3 EINGÄNGE ODER-UND/ODER-UND-INVERT-GATE, MONOLITHISCHES SILIKON
DLA DSCC-VID-V62/03638 REV B-2008 MIKROKREISLAUF, LINEAR, DIFFERENZKOMPARATOR MIT BLITZBLITZEN, MONOLITHISCHES SILIKON

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Spektrum von Siliziumwafern

JIS H 0615:2021 Testverfahren zur Bestimmung der Verunreinigungskonzentrationen in Siliziumkristallen mittels Photolumineszenzspektroskopie
JIS H 0615:1996 Testverfahren zur Bestimmung der Verunreinigungskonzentrationen in Siliziumkristallen mittels Photolumineszenzspektroskopie

PL-PKN, Spektrum von Siliziumwafern

PN C04348-1970 Feste Brennstoffe. Bestimmung von Silizium, Aluminium, Eisen, Kalzium und Magnesium in Aschen mit der spektrographischen Methode

Society of Motion Picture and Television Engineers (SMPTE), Spektrum von Siliziumwafern

SMPTE ST 117M-2001 Kinofilm – fotografische Audioaufnahme – spektrale diffuse Dichte
SMPTE RP 180-1999 Spektrale Bedingungen, die die Druckdichte in Negativ- und Zwischenfilmen für Kinofilme definieren

Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, Spektrum von Siliziumwafern

GJB 2918A-2017 Spezifikation für polierte Wafer aus geschmolzenem Silizium-Einkristall in einer Zone mit hohem Widerstand in Detektorqualität

RO-ASRO, Spektrum von Siliziumwafern

SR ISO 4139:1995 Ferrosilicium. Bestimmung des Aluminiumgehalts. Flammenatomabsorptionsspektrometrische Methode
STAS 11359/8-1980 NATÜRLICHE SCHWEFELERZE UND KONZENTRATE Spektralanalyse von Aluminium, Kalzium, Magnesium, Eisen und Silizium

Professional Standard - Ferrous Metallurgy, Spektrum von Siliziumwafern

YB/T 5159-2007 Bestimmung von Spuren von Bor in Graphitprodukten hoher Reinheit durch spektroskopische Methode, die Pulvermethode
YB/T 5159-1993 Pulvermethode zur spektroskopischen Bestimmung von Silizium und Eisen in hochreinen Graphitprodukten

Professional Standard - Aviation, Spektrum von Siliziumwafern

HB 7716.12-2002 Spektrometrische Analyse von Titanlegierungen Teil 12: Bestimmung des Siliziumgehalts – Flammenatomabsorptionsspektrometrische Methode