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전반사 X-형광

모두 14항목의 전반사 X-형광와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 전반사 X-형광와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 금속 재료 테스트, 반도체 소재, 분석 화학.

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 전반사 X-형광

• GB/T 24578-2015 실리콘 웨이퍼 표면의 금속 오염에 대한 전반사 X선 형광 분광법 테스트 방법
• GB/T 24578-2009 실리콘 웨이퍼 표면의 금속 오염에 대한 전반사 X선 형광 분광법 테스트 방법
• GB/T 42360-2023 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분광 분석

German Institute for Standardization, 전반사 X-형광

• DIN 51003:2004 전반사 X선 형광 일반 원리 및 정의

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 전반사 X-형광

• JIS K 0181:2021 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분석

International Organization for Standardization (ISO), 전반사 X-형광

• ISO 20289:2018 표면 화학 분석 - 물의 전반사 X선 형광 분석
• ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에 전반사 X선 형광 분광법 활용

British Standards Institution (BSI), 전반사 X-형광

• BS ISO 20289:2018 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분석
• PD ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에서의 전반사 X선 형광 분광학 응용
• BS PD ISO/TS 18507:2015 표면 화학 분석 생물학적 및 환경 분석에 전반사 X선 형광 분광법 활용

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 전반사 X-형광

• GB/T 40110-2021 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염에 대한 TXRF(전반사 X선 형광 분광법) 측정

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 전반사 X-형광

• KS D ISO 14706-2003(2018) 표면 화학 분석 - 전반사 X선 형광 분석기는 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 불순물을 측정합니다.
• KS D ISO 14706:2003 표면 화학 분석 전반사 X선 형광 분광법을 이용한 실리콘 웨이퍼 표면의 주요 오염물질 측정

KR-KS, 전반사 X-형광

• KS D ISO 14706-2003(2023) 표면 화학 분석 - 전반사 X선 형광 분석기는 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 불순물을 측정합니다.

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